矩形平面靶磁场分析及薄膜厚度模拟
| 独创性声明 | 第1页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第10页 |
| ·课题的研究现状 | 第10-18页 |
| ·靶设计的研究现状 | 第11-17页 |
| ·薄膜厚度均匀性的研究现状 | 第17-18页 |
| ·课题的来源及研究内容 | 第18-20页 |
| ·课题的来源 | 第18-19页 |
| ·课题的研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 实验设备及原理 | 第20-28页 |
| ·溅射原理 | 第20-23页 |
| ·辉光放电 | 第20-22页 |
| ·溅射特性 | 第22-23页 |
| ·溅射薄膜形成过程 | 第23-24页 |
| ·实验设备及工艺 | 第24-28页 |
| ·ITO镀膜玻璃生产线及工作原理 | 第24-26页 |
| ·超高真空磁控与离子束联合溅射系统 | 第26-28页 |
| 第三章 矩形平面靶磁场分析 | 第28-49页 |
| ·经典设计存在的问题 | 第28-30页 |
| ·靶分析和设计的通用方法 | 第30-31页 |
| ·物理模型 | 第31-32页 |
| ·靶的结构 | 第31页 |
| ·物理模型的建立 | 第31-32页 |
| ·数学模型 | 第32-33页 |
| ·基本方程 | 第32页 |
| ·标量磁位 | 第32-33页 |
| ·边界条件 | 第33页 |
| ·有限元法离散化处理 | 第33-36页 |
| ·磁感应强度的计算 | 第36页 |
| ·用ANSYS软件进行磁场计算 | 第36-37页 |
| ·计算结果分析 | 第37-40页 |
| ·磁钢对靶面磁场强度的影响 | 第38-39页 |
| ·导磁片对靶面磁场强度的影响 | 第39-40页 |
| ·测试结果分析 | 第40-47页 |
| ·磁钢结构 | 第40-41页 |
| ·测试结果 | 第41-45页 |
| ·实验结果 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 薄膜厚度分布的模拟 | 第49-65页 |
| ·膜厚分布的模型 | 第49-52页 |
| ·膜厚分布的物理模型 | 第49-50页 |
| ·膜厚分布的数学模型 | 第50-51页 |
| ·模型缺点分析 | 第51-52页 |
| ·分析与讨论 | 第52-58页 |
| ·实验数据与处理 | 第58-64页 |
| ·实验装置与样品制备 | 第58页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第58-59页 |
| ·片内均匀性 | 第59-60页 |
| ·片间均匀性 | 第60-62页 |
| ·批次间均匀性 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
