| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·自组装技术 | 第9-14页 |
| ·自组装单层膜 | 第9-10页 |
| ·自组装单层膜的分类 | 第10-12页 |
| ·自组装单层膜的组装机理 | 第12-14页 |
| ·自组装膜的缺陷 | 第14-16页 |
| ·缺陷的发现 | 第14页 |
| ·缺陷的形成机理 | 第14-15页 |
| ·缺陷对膜性能的影响 | 第15页 |
| ·基底表面的影响 | 第15-16页 |
| ·自组装膜的表征方法 | 第16-19页 |
| ·光谱表征 | 第16页 |
| ·电化学表征 | 第16-17页 |
| ·椭圆偏振法、QCM、SPR | 第17页 |
| ·显微技术和X射线法 | 第17-18页 |
| ·自组装膜表面的润湿性 | 第18-19页 |
| ·选题意义及论文设计 | 第19-20页 |
| ·参考文献 | 第20-24页 |
| 第二章 金基底的清洗与其接触角和表面能的大小 | 第24-30页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-26页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第25页 |
| ·实验步骤 | 第25-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-29页 |
| ·本章小结 | 第29页 |
| ·参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 金基底的清洗方法与自组装膜表面性质的研究 | 第30-40页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·分子自组装膜的应用及分类 | 第30-31页 |
| ·组装前基底表面的处理 | 第31页 |
| ·实验部分 | 第31-33页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第31-32页 |
| ·实验步骤 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-38页 |
| ·等离子体、Piranha溶液和UV／O_3清洗后进行自组装所得的自组装膜静态接触角的比较 | 第33-35页 |
| ·等离子体、Piranha溶液和UV／O_3清洗后进行自组装所得的自组装膜动态接触角的比较 | 第35-36页 |
| ·等离子体、Piranha溶液和UV／O_3清洗后的金基底进行自组装,自组装膜表面能的比较 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38页 |
| ·参考文献 | 第38-40页 |
| 论文总结 | 第40-41页 |
| 附图 | 第41-42页 |
| 硕士论文期间发表和拟发表的论文 | 第42-43页 |
| 致谢 | 第43页 |
