| 原创性声明 | 第1-4页 |
| 关于学位论文使用授权的声明 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章、引言 | 第12-28页 |
| ·概要 | 第12-13页 |
| ·常规X射线荧光分析(X-Ray Fluorescence，XRF)简介 | 第13-20页 |
| ·XRF分析基本原理 | 第14-15页 |
| ·X射线源 | 第15-16页 |
| ·X射线与物质的相互作用 | 第16-18页 |
| ·XRF分析常用的两种探测方式 | 第18-19页 |
| ·XRF分析误差和最低探测极限 | 第19-20页 |
| ·新型X射线荧光技术发展的必要性 | 第20页 |
| ·X射线全反射 | 第20-27页 |
| ·X射线全反射现象 | 第20-23页 |
| ·X射线全反射的特点 | 第23-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第二章、掠入射X射线荧光分析技术(GI-XRF) | 第28-54页 |
| ·掠入射X射线荧光技术发展概述 | 第28-31页 |
| ·GI-XRF分析理论 | 第31-39页 |
| ·理想表面界面的多层膜X射线荧光强度的计算 | 第32-36页 |
| ·非理想表面界面的多层膜X射线荧光强度的计算 | 第36-39页 |
| ·GI-XRF分析平台系统 | 第39-43页 |
| ·单色器 | 第40页 |
| ·双狭缝系统 | 第40-41页 |
| ·样品平台 | 第41-42页 |
| ·零角度探测系统 | 第42页 |
| ·探测器 | 第42-43页 |
| ·多道脉冲高度分析器 | 第43页 |
| ·GI-XRF分析系统性能评测 | 第43-50页 |
| ·零角度探测方法验证 | 第43-44页 |
| ·GI-XRF分析系统稳定性 | 第44-45页 |
| ·GI-XRF分析系统的深度分辨能力评测 | 第45-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 第三章、用 GI.XRF分析方法研究Ta、Bi在 FePt薄膜中的扩散行为 | 第54-82页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·实验 | 第55-56页 |
| ·实验结果与讨论 | 第56-78页 |
| ·不同厚度Ta缓冲层对FePt薄膜磁性能的影响 | 第56-59页 |
| ·三种典型厚度Ta缓冲层的FePt系列薄膜 | 第59-71页 |
| ·在Ta和FePt层中间加入不同厚度Bi层的 FePt系列薄膜 | 第71-78页 |
| ·小结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-82页 |
| 第四章、掠出射X射线荧光分析技术(GE-XRf) | 第82-104页 |
| ·引言 | 第82-84页 |
| ·GE-XRF分析理论 | 第84-87页 |
| ·GE-XRF分析实验装置 | 第87-89页 |
| ·GE-XRF分析平台性能评测实验 | 第89-96页 |
| ·元素特征荧光谱线强度比的“非特征”变化 | 第89-91页 |
| ·GE-XRF实验零度角的标定 | 第91-93页 |
| ·GE-XRF分析方法的可靠性实验 | 第93-94页 |
| ·GE-XRF分析系统的角度分辨能力 | 第94-96页 |
| ·GE一XRF在薄膜分析中的应用 | 第96-100页 |
| ·样品制备 | 第97页 |
| ·实验结果及讨论 | 第97-100页 |
| ·小结 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-104页 |
| 第五章 总结 | 第104-106页 |
| 发表的文章 | 第106-107页 |
| 致谢 | 第107页 |
