| 引言 | 第1-13页 |
| 1 溅射技术原理 | 第13-17页 |
| ·溅射类型 | 第13-14页 |
| ·直流溅射 | 第13页 |
| ·射频溅射 | 第13-14页 |
| ·磁控溅射 | 第14页 |
| ·反应磁控溅射制备氮化锆薄膜的原理 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射法的改进和发展 | 第15-17页 |
| ·非平衡磁控溅射技术 | 第15页 |
| ·中频交流磁控溅射技术 | 第15-17页 |
| 2 试验仪器与试验方法 | 第17-22页 |
| ·中频反应磁控溅射试验设备 | 第17-18页 |
| ·溅射系统 | 第17页 |
| ·电源系统 | 第17-18页 |
| ·抽气系统 | 第18页 |
| ·偏压 | 第18页 |
| ·质谱监控系统 | 第18页 |
| ·氮化锆薄膜的制备流程 | 第18-19页 |
| ·试验材料及试样制备 | 第18-19页 |
| ·镀膜工艺流程 | 第19页 |
| ·试样测量仪器 | 第19-22页 |
| ·薄膜颜色的测量 | 第19-21页 |
| ·其它物理特性的测量 | 第21-22页 |
| 3 质谱仪在线监控系统研究 | 第22-28页 |
| ·溅射工艺控制模式比较 | 第22页 |
| ·质谱分析仪的组成与分析原理 | 第22-24页 |
| ·QMS422四极杆质谱分析仪的组成 | 第23-24页 |
| ·质谱仪测量分压强的原理 | 第24页 |
| ·质谱仪调控系统设计与调试 | 第24-28页 |
| ·离子源参数调整 | 第24-25页 |
| ·取样装置设计 | 第25-26页 |
| ·标定 | 第26页 |
| ·系统动态响应性能与稳定性测试 | 第26-27页 |
| ·重复性测试 | 第27-28页 |
| 4 氮化锆薄膜颜色机理研究 | 第28-34页 |
| ·氮化锆薄膜颜色评价机制 | 第28-30页 |
| ·三刺激值与色品坐标 | 第28页 |
| ·CIE1931色度坐标 | 第28-29页 |
| ·CIE 1976(L~*、a~*、b~*)颜色体系 | 第29-30页 |
| ·主波长和色纯度 | 第30页 |
| ·氮化锆薄膜颜色的物理解释 | 第30-34页 |
| ·颜色生成原理 | 第30-31页 |
| ·吸收机制 | 第31-32页 |
| ·氮化锆薄膜颜色的物理解释 | 第32-34页 |
| 5 工艺参数对氮化锆薄膜颜色影响的理论模型研究 | 第34-39页 |
| ·溅射模型的条件设定 | 第34页 |
| ·溅射模型 | 第34-35页 |
| ·靶表面方程 | 第34页 |
| ·基片表面方程 | 第34-35页 |
| ·相应参数的确定 | 第35-37页 |
| ·反应气体通量 | 第35-36页 |
| ·氩离子的入射速率 | 第36页 |
| ·溅射产额 | 第36-37页 |
| ·微观模型 | 第37-39页 |
| 6 工艺参数对氮化锆薄膜颜色影响的试验研究 | 第39-47页 |
| ·主因素分析 | 第39-42页 |
| ·试验设计 | 第39-41页 |
| ·函数回归模型的建立与检验 | 第41-42页 |
| ·主因素效应 | 第42页 |
| ·交互作用对颜色特性的影响 | 第42页 |
| ·氮分压对薄膜颜色影响 | 第42-45页 |
| ·其它组元对薄膜颜色的影响 | 第45-47页 |
| 7 工艺参数对氮化锆薄膜其它物理性能的影响 | 第47-52页 |
| ·氮分压对氮化锆薄膜其它物理性能的影响 | 第47-49页 |
| ·氮分压对氮化锆薄膜结构的影响 | 第47-48页 |
| ·氮分压对氮化锆薄膜耐蚀性的影响 | 第48页 |
| ·氮分压对氮化锆薄膜显微硬度的影响 | 第48-49页 |
| ·负偏压对氮化锆薄膜物理特性的影响 | 第49-50页 |
| ·负偏压对薄膜沉积速率的影响 | 第49页 |
| ·负偏压对薄膜表面粗糙度的影响 | 第49-50页 |
| ·负偏压对薄膜抗蚀性能的影响 | 第50页 |
| ·氩气压强对氮化锆薄膜物理特性的影响 | 第50-52页 |
| ·氩气压强对薄膜沉积速率的影响 | 第50-51页 |
| ·氩气压强对薄膜电阻率的影响 | 第51-52页 |
| 8 颜色调控实践 | 第52-55页 |
| ·建立回归模型 | 第52-53页 |
| ·调控的实施 | 第53-55页 |
| 9 结论与展望 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 作者简历 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-66页 |