（Ti，Cr）N薄膜的多弧离子镀工艺、显微结构及力学性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-24页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·离子镀技术 | 第9-11页 |
| ·离子镀的发展 | 第9页 |
| ·离子镀的定义 | 第9页 |
| ·离子镀的类型 | 第9-10页 |
| ·离子镀中离子轰击的效应 | 第10-11页 |
| ·离子对基片表面轰击的效应 | 第10-11页 |
| ·离子轰击对基片和镀层界面的效应 | 第11页 |
| ·离子轰击在薄膜生长中的效应 | 第11页 |
| ·多弧离子镀膜技术 | 第11-18页 |
| ·概述 | 第11-12页 |
| ·多弧离子镀的基本原理及发展 | 第12-14页 |
| ·多弧离子镀的工艺参数 | 第14-16页 |
| ·多弧离子镀的特点 | 第16页 |
| ·多弧离子镀的应用 | 第16-18页 |
| ·镀膜材料及发展 | 第18-21页 |
| ·二元氮化物薄膜 | 第18-19页 |
| ·多元合金化薄膜 | 第19-21页 |
| ·多弧离子镀发展的问题所在及解决现状 | 第21-22页 |
| ·本课题的研究目标及研究内容 | 第22-24页 |
| 2 （Ti，Cr）N 薄膜的制备及实验方法 | 第24-31页 |
| ·试样的准备 | 第24页 |
| ·多弧离子镀膜设备 | 第24-25页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第25-26页 |
| ·样品的预处理 | 第25页 |
| ·操作过程 | 第25-26页 |
| ·（Ti，Cr）N 薄膜的制备方法 | 第26页 |
| ·重要工艺参数的确定 | 第26-28页 |
| ·薄膜的性能分析评价方法 | 第28-31页 |
| 3 薄膜的表面形貌及成分 | 第31-40页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第31-36页 |
| ·薄膜的成分分析 | 第36-37页 |
| ·薄膜的表面粗糙度的测量和分析 | 第37-39页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第39-40页 |
| 4 薄膜的力学性能 | 第40-46页 |
| ·薄膜显微硬度和本征硬度 | 第40-42页 |
| ·薄膜与基体间结合力的评价 | 第42-46页 |
| 5 结论及建议 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
