| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-18页 |
| ·Ba_xSr_(1-x)TiO_3电介质材料 | 第8-10页 |
| ·铁电体的结构与极化特征 | 第8-9页 |
| ·Ba_xSr_(1-x)TiO_3电介质材料结构简介 | 第9-10页 |
| ·BST(Ba_xSr_(1-x)TiO_3)铁电薄膜的应用热点 | 第10-11页 |
| ·BST薄膜动态随机存储器(DRAM) | 第10页 |
| ·BST薄膜非挥发性存储器(FRAM) | 第10-11页 |
| ·BST薄膜非制冷红外探测器热成像仪 | 第11页 |
| ·BST薄膜的研究现状 | 第11-15页 |
| ·BST薄膜的制备技术 | 第11-12页 |
| ·Sol-Gel法原理 | 第12页 |
| ·金属盐和溶剂的选取 | 第12-13页 |
| ·添加剂的选取 | 第13页 |
| ·基片和电极材料的选取 | 第13-14页 |
| ·BST薄膜的热处理 | 第14-15页 |
| ·BST薄膜的微细加工 | 第15-16页 |
| ·研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 实验条件与设备 | 第18-23页 |
| ·研究思路 | 第18-19页 |
| ·实验条件 | 第19-23页 |
| ·实验常规设备 | 第19页 |
| ·测试方法 | 第19-23页 |
| 第三章 Ba_xSr_(1-x)TiO_3薄膜的制备 | 第23-29页 |
| ·衬底的准备 | 第23-24页 |
| ·硅片的清洗 | 第23-24页 |
| ·过渡层的制备 | 第24页 |
| ·底电极的制备 | 第24页 |
| ·Ba_xSr_(1-x)TiO_3溶胶的制备 | 第24-26页 |
| ·溶胶制备 | 第25-26页 |
| ·Ba_xSr_(1-x)TiO_3薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·提拉膜工艺 | 第26页 |
| ·晶化处理工艺 | 第26-27页 |
| ·顶电极的制备 | 第27-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第四章 Ba_xSr_(1-x)TiO_3薄膜的介电、铁电性能分析 | 第29-48页 |
| ·样品的主要制备参数 | 第29-30页 |
| ·Pt衬底上Ba_(0.8)Sr_(0.2)TiO_3薄膜的电学性能分析 | 第30-39页 |
| ·不同热处理温度下BST薄膜的电学性能及其晶体结构变化 | 第30-35页 |
| ·不同热处理时间BST薄膜的电学性能及其晶体结构变化 | 第35-38页 |
| ·Pt衬底的BST薄膜的疲劳性能表征 | 第38-39页 |
| ·ITO衬底的BST薄膜的电学性能分析 | 第39-43页 |
| ·ITO底电极上BST薄膜的电学性能 | 第39-41页 |
| ·ITO底电极上BST薄膜的疲劳性能表征 | 第41页 |
| ·ITO和Tt底电极上制备的BST薄膜的电学性能对比 | 第41-43页 |
| ·不同Ba、Sr组分的BST薄膜的电学性能分析 | 第43-46页 |
| ·小结 | 第46-48页 |
| 第五章 Ba_(0.8)Sr_(0.2)TiO_3薄膜的微细加工 | 第48-57页 |
| ·实验方法 | 第48-49页 |
| ·BST溶胶及其凝胶薄膜的感光特性分析 | 第49-52页 |
| ·BST溶胶及其凝胶薄膜的螯合物结构分析 | 第49-51页 |
| ·BST凝胶薄膜的紫外光感应特性 | 第51-52页 |
| ·BST薄膜的微细图形制备 | 第52-53页 |
| ·BST薄膜的制备及结构表征 | 第53-54页 |
| ·BSTS/2薄膜的电性能表征 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 作者在硕士期间撰写和发表的论文 | 第64页 |
