纳米光刻技术及其在三端结器件和纳米光栅偏振器中的应用

摘要	第1-6页
Abstract	第6-11页
1 绪论	第11-30页
·纳米光刻技术研究概况	第12-20页
·极紫外光刻技术	第12-14页
·X射线光刻技术	第14-15页
·干涉光刻技术	第15-16页
·电子束光刻技术	第16-18页
·纳米压印技术	第18-20页
·三端结纳电子器件研究现状	第20-23页
·纳米光栅偏振器研究现状	第23-28页
·纳米光栅偏振器的理论设计研究	第23-24页
·纳米光栅偏振器的制作工艺研究	第24-27页
·纳米光栅偏振器的应用研究	第27-28页
·本文研究内容	第28-30页
2 电子束光刻工艺方法研究	第30-46页
·电子束散射基本理论	第30-34页
·电子束在抗蚀剂和基底材料中的散射	第30-31页
·电子束在抗蚀剂中的运动轨迹	第31-33页
·电子束光刻中的邻近效应及其校正	第33-34页
·电子束光刻中的场拼接	第34页
·硅基底清洗和氧化工艺	第34-37页
·硅基底清洗工艺	第35页
·硅基底氧化工艺	第35-37页
·电子束光刻工艺优化	第37-45页
·电子束抗蚀剂旋涂	第37-38页
·曝光剂量与图形设计结构的优化	第38-42页
·曝光场拼接精度的改善措施	第42-45页
·本章小结	第45-46页
3 纳米压印模板相关工艺研究	第46-64页
·引言	第46-48页
·压印模板制作工艺研究	第48-53页
·电子束光刻工艺	第49-50页
·金属蒸镀和剥离工艺	第50-52页
·干法刻蚀工艺	第52-53页
·压印模板表面抗粘层制备工艺	第53-56页
·压印模板表面清洁工艺方法研究	第56-62页
·模板清洁工艺试验	第56-58页
·热压印清洁工艺清理颗粒污染物	第58-59页
·紫外压印清洁工艺清理颗粒污染物	第59-61页
·热压印清洁工艺清理残胶污染物	第61-62页
·本章小结	第62-64页
4 热纳米压印工艺研究	第64-95页
·引言	第64-65页
·热纳米压印机理	第65-67页
·热压印压印胶工艺优化	第67-82页
·热压印压印胶工艺参数优化	第68-72页
·脱模过程中的拉伸机理分析	第72-73页
·残胶层工艺参数优化	第73-82页
·热压印塑料基底工艺优化	第82-86页
·基于软模板压印的高密度纳米网格结构制作工艺	第86-93页
·压印母模板制作工艺	第86-88页
·软塑料模板复制工艺	第88-89页
·硅光栅结构制作工艺	第89-92页
·高密度纳米网格结构制作工艺	第92-93页
·本章小结	第93-95页
5 硅基三端结纳电子器件的制作与性能测试	第95-107页
·引言	第95页
·三端结纳电子器件的基本输运原理	第95-98页
·SOI材料的载流子浓度和电子迁移率计算	第98-101页
·硅基三端结纳电子器件的制作与电学性能测试	第101-106页
·本章小结	第106-107页
6 柔性双层金属纳米光栅偏振器的设计、制作与测试	第107-125页
·引言	第107页
·柔性双层金属纳米光栅偏振器的优化设计	第107-117页
·金属纳米光栅偏振器的设计理论	第108-109页
·柔性双层金属纳米光栅偏振器的优化设计	第109-117页
·柔性双层金属纳米光栅偏振器的制作工艺	第117-120页
·压印模板制作工艺	第117-119页
·柔性双层金属纳米光栅偏振器的制作工艺	第119-120页
·柔性双层金属纳米光栅偏振器偏振特性测试分析	第120-123页
·小结	第123-125页
7 结论与展望	第125-128页
·全文总结	第125-127页
·后继工作展望	第127-128页
参考文献	第128-139页
攻读博士学位期间发表学术论文情况	第139-141页
创新点摘要	第141-142页
致谢	第142-143页
作者简介	第143-144页