用于波像差检测的二元光栅掩模标记优化方法研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
1 绪论 | 第8-13页 |
·课题来源 | 第8页 |
·选题意义及背景 | 第8-9页 |
·国内外基本研究概况 | 第9-12页 |
·本文的主要研究内容 | 第12-13页 |
2 基于二元光栅掩模标记的波像差检测方法 | 第13-25页 |
·光刻机波像差基本概念 | 第13-16页 |
·部分相干成像模型 | 第16-17页 |
·完全相干照明时波像差检测方法 | 第17-20页 |
·部分相干照明时波像差检测方法 | 第20-24页 |
·本章小结 | 第24-25页 |
3 用于波像差检测的二元光栅掩模标记优化方法 | 第25-47页 |
·光瞳面离散采样原理 | 第25-26页 |
·波像差的灵敏度分析 | 第26-36页 |
·条件数与误差传播率 | 第36-38页 |
·二元光栅掩模标记优化的目标函数 | 第38-42页 |
·优化方法的选择 | 第42-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
4 优化方法的实现及仿真分析 | 第47-54页 |
·完全相干照明时的仿真分析 | 第47-50页 |
·部分相干照明时的仿真分析 | 第50-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
5 总结与展望 | 第54-56页 |
·全文总结 | 第54页 |
·展望 | 第54-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
附录 攻读硕士学位期间发表论文 | 第61页 |