| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| ·课题研究的背景 | 第9页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| ·自组织纳米结构的制备方法 | 第10-14页 |
| ·"自上而下"的纳米刻蚀技术 | 第11-12页 |
| ·"自下而上"的自组装方法 | 第12页 |
| ·模板法 | 第12-14页 |
| ·低能离子束刻蚀法 | 第14页 |
| ·低能离子束刻蚀中自组织纳米结构形成 | 第14-15页 |
| ·本课题国内外研究现状 | 第15-16页 |
| ·本课题研究主要内容 | 第16-17页 |
| ·工作安排 | 第17-18页 |
| 2 研究方案 | 第18-20页 |
| ·技术路线 | 第18页 |
| ·方案设计 | 第18-19页 |
| ·低能离子束刻蚀形成自组织纳米结构的机理 | 第19页 |
| ·小结 | 第19-20页 |
| 3 低能离子束刻蚀技术和检测设备 | 第20-29页 |
| ·低能离子束刻蚀技术 | 第20-23页 |
| ·离子束刻蚀系统 | 第20-21页 |
| ·等离子抛光与离子束刻蚀系统 | 第21-23页 |
| ·检测设备 | 第23-28页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-26页 |
| ·Taylor Surf CCI 2000非接触式表面测量仪 | 第26-27页 |
| ·SPECTRUM GX型傅立叶变换红外光谱仪 | 第27-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 4 宽束冷阴极离子源实验与结果讨论 | 第29-45页 |
| ·实验方案 | 第29页 |
| ·实验制备 | 第29-30页 |
| ·样品制备 | 第29页 |
| ·工艺参数和工艺流程 | 第29-30页 |
| ·不同离子束参数的研究与结果分析 | 第30-38页 |
| ·离子束不同入射能量的影响 | 第30-32页 |
| ·离子束不同束流的影响 | 第32-34页 |
| ·离子束入射角度的影响 | 第34-36页 |
| ·离子束刻蚀时间的影响 | 第36-38页 |
| ·低能离子束刻蚀形成自组织纳米结构的机理 | 第38-43页 |
| ·几种离子束刻蚀理论模型 | 第38-41页 |
| ·对Bradley-Harper(B-H)模型的分析 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 5 微波回旋共振离子源实验与结果分析 | 第45-53页 |
| ·工艺参数和工艺流程 | 第45-46页 |
| ·不同离子束参数的研究与结果分析 | 第46-52页 |
| ·离子束入射能量的影响 | 第46-48页 |
| ·离子束束流密度的影响 | 第48-50页 |
| ·离子束入射角度的影响 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 6 结论 | 第53-55页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |