基于光刻模型的OPC切分研究
| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目次 | 第7-9页 |
| 图表目录 | 第9-11页 |
| 1 绪论 | 第11-15页 |
| ·课题背景 | 第11-13页 |
| ·课题现状分析 | 第13-14页 |
| ·本文的主要工作 | 第14-15页 |
| 2 OPC技术 | 第15-28页 |
| ·集成电路光刻工艺 | 第15-19页 |
| ·集成电路生产工艺 | 第15页 |
| ·光刻工艺 | 第15-19页 |
| ·OPC | 第19-28页 |
| ·光学邻近效应 | 第20页 |
| ·基于规则的OPC | 第20-21页 |
| ·基于模型的OPC | 第21-24页 |
| ·OPC工作流程 | 第24-25页 |
| ·OPC采样方式 | 第25-28页 |
| 3 基于模型的切分研究 | 第28-50页 |
| ·切分问题的数学抽象 | 第28-29页 |
| ·规则切分的不足 | 第29-31页 |
| ·规则切分方式 | 第30页 |
| ·规则切分的缺点 | 第30-31页 |
| ·纹波抑制算法 | 第31-36页 |
| ·算法基础 | 第31-32页 |
| ·算法参数 | 第32-33页 |
| ·优化搜索 | 第33页 |
| ·优化程序说明 | 第33-36页 |
| ·实验与结果分析 | 第36-49页 |
| ·实验配置 | 第36页 |
| ·实验1 | 第36-39页 |
| ·实验1结果分析 | 第39-47页 |
| ·实验1小结 | 第47页 |
| ·实验2 | 第47-49页 |
| ·实验2小结 | 第49页 |
| ·本章总结 | 第49-50页 |
| 4 混合切分的OPC流程 | 第50-56页 |
| ·基于Calibre的混合切分方案 | 第50-51页 |
| ·纹波影响分析 | 第51-53页 |
| ·实验与讨论 | 第53-56页 |
| ·实验版图 | 第53-54页 |
| ·实验程序说明 | 第54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-56页 |
| 5 结束语 | 第56-57页 |
| ·总结 | 第56页 |
| ·展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
