准分子激光投影光刻光学系统测试及评价
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| CONTENTS | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-24页 |
| ·本课题的研究背景 | 第15-16页 |
| ·激光光刻技术概述 | 第16-19页 |
| ·激光光刻技术分类 | 第16-19页 |
| ·电子束光刻 | 第16-17页 |
| ·X射线光刻 | 第17-18页 |
| ·离子束光刻 | 第18页 |
| ·典型的光学曝光光刻 | 第18-19页 |
| ·激光投影光刻 | 第19-22页 |
| ·光学投影光刻技术的发展 | 第19-21页 |
| ·光学投影光刻工作原理 | 第21-22页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第22-24页 |
| ·课题来源 | 第22页 |
| ·结构安排 | 第22-23页 |
| ·论文工作 | 第23-24页 |
| 第二章 激光投影光刻光学成像系统 | 第24-36页 |
| ·概述 | 第24-25页 |
| ·准分子激光器 | 第25-28页 |
| ·准分子激光器背景 | 第25页 |
| ·TOL型XeF激光器的光束质量 | 第25-28页 |
| ·照明系统 | 第28-30页 |
| ·投影光刻对照明系统的要求 | 第28-30页 |
| ·投影光刻物镜 | 第30-32页 |
| ·投影光刻光学系统的分辨力 | 第31页 |
| ·焦深 | 第31-32页 |
| ·部分相干成像 | 第32页 |
| ·投影光刻光学系统的光学设计 | 第32-35页 |
| ·照明系统设计结果 | 第32-33页 |
| ·投影系统设计结果 | 第33-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第三章 投影光刻光学系统评价指标 | 第36-44页 |
| ·概述 | 第36页 |
| ·光束均匀性评价指标 | 第36-40页 |
| ·加工窗口 | 第38页 |
| ·能量分数 | 第38-39页 |
| ·平顶因子 | 第39页 |
| ·动态范围 | 第39-40页 |
| ·光束质量M~2因子评价指标 | 第40-42页 |
| ·旁轴标量场 | 第40-41页 |
| ·部分相干高斯——谢尔模型光束 | 第41页 |
| ·对M~2因子应用的几点讨论 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第四章 投影光刻光学系统测试及评价 | 第44-48页 |
| ·光学系统的测试及评价 | 第44-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第五章 激光投影光刻实验 | 第48-54页 |
| ·光刻工艺 | 第48-51页 |
| ·PCB及ITO光刻实验 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-64页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
