| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| CONTENTS | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| ·本课题的研究背景 | 第10页 |
| ·传统的平板显示光学曝光技术 | 第10-12页 |
| ·接近式成像技术 | 第11页 |
| ·透镜步进重复成像技术 | 第11页 |
| ·反射镜投影成像技术 | 第11-12页 |
| ·激光投影成像技术 | 第12-13页 |
| ·本论文的研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 准分子激光微加工技术 | 第14-22页 |
| ·准分子激光概述 | 第14页 |
| ·准分子激光微加工的优势 | 第14-16页 |
| ·易获得高分辨率 | 第15页 |
| ·偏向于冷加工 | 第15页 |
| ·易被材料吸收 | 第15页 |
| ·高功率密度 | 第15-16页 |
| ·实验室现有曝光机设备简介 | 第16-19页 |
| ·TOL型准分子激光器 | 第16页 |
| ·照明光学系统 | 第16-17页 |
| ·投影成像系统 | 第17-18页 |
| ·二维扫描移动工作台 | 第18-19页 |
| ·一种提高曝光均匀性的二维扫描方法 | 第19-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 大面积ITO玻璃光刻的研究 | 第22-30页 |
| ·ITO材料的简介 | 第22页 |
| ·ITO材料在平板显示行业的应用和发展前景 | 第22-23页 |
| ·应用于高清平板显示的ITO光刻 | 第23页 |
| ·ITO光刻方法的现状 | 第23-24页 |
| ·ITO玻璃的光刻实验以及结果分析 | 第24-29页 |
| ·实验前准备 | 第24页 |
| ·光刻工艺流程 | 第24-26页 |
| ·结果和分析 | 第26-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第四章 用于平板电脑TFT光刻的投影物镜的优化设计 | 第30-44页 |
| ·设计概述 | 第30-31页 |
| ·初始结构的选择 | 第31页 |
| ·镜片材料 | 第31-32页 |
| ·像差校正 | 第32-34页 |
| ·结果和分析 | 第34-40页 |
| ·光程差(OPD) | 第34-35页 |
| ·调制传递函数(MTF) | 第35-36页 |
| ·点扩散函数 | 第36-37页 |
| ·场曲和畸变 | 第37-38页 |
| ·像面相对照度 | 第38页 |
| ·点列图 | 第38-39页 |
| ·能量分布图 | 第39-40页 |
| ·设计优势和亮点 | 第40页 |
| ·本章小结 | 第40-44页 |
| 第五章 关于无掩模光刻的展望 | 第44-50页 |
| ·电子束光刻技术 | 第44页 |
| ·离子束光刻 | 第44-45页 |
| ·基于DMD的数字化光刻技术 | 第45-48页 |
| ·DMD芯片工作原理 | 第45-46页 |
| ·基于DMD的点阵式光刻技术 | 第46-47页 |
| ·基于DMD的投影式光刻技术 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 攻读学位期间发表的论文及申请的专利 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62页 |