| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-45页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第13-25页 |
| ·摩尔定律与 ITRS | 第14-20页 |
| ·集成电路的制造-投影光刻技术 | 第20-25页 |
| ·国内外的发展现状 | 第25-43页 |
| ·投影光刻物镜的光学设计 | 第28-41页 |
| ·投影光刻物镜的像质补偿 | 第41-43页 |
| ·论文的主要研究内容和论文结构安排 | 第43-45页 |
| ·研究对象 | 第43页 |
| ·论文工作的主要内容 | 第43-44页 |
| ·论文的结构安排 | 第44-45页 |
| 第2章 投影光刻物镜的成像原理与像质评价 | 第45-79页 |
| ·成像原理-从矢量衍射到标量衍射 | 第45-47页 |
| ·光刻物镜的像质评价 | 第47-76页 |
| ·波像差与分辨率 | 第48-55页 |
| ·基于 zenike 多项式的波像差分解 | 第55-62页 |
| ·Fringe Zernike 多项式的不足与扩展 | 第62-64页 |
| ·元件表面质量与折射率均匀性对波像差的影响 | 第64-73页 |
| ·波像差的重新划分与定义(针对 NA0.75 物镜) | 第73-76页 |
| ·结论 | 第76-79页 |
| 第3章 NA0.75 投影光刻物镜的设计优化 | 第79-107页 |
| ·NA0.75 投影光刻物镜的基本设计指标 | 第79-80页 |
| ·工作波长与光源 | 第80-83页 |
| ·工作波长与光学材料 | 第83-89页 |
| ·熔石英和氟化钙的光学特性 | 第84-88页 |
| ·光学材料的设计输入参数 | 第88-89页 |
| ·NA0.75 投影物镜结构形式的选取 | 第89-97页 |
| ·NA0.75 投影光刻物镜的设计方案 | 第93-94页 |
| ·设计方案的比较 | 第94-97页 |
| ·NA0.75 投影光刻物镜的优化设计与分析 | 第97-105页 |
| ·系统波像差 | 第98-100页 |
| ·畸变、MTF、远心度 | 第100-102页 |
| ·非球面元件参数 | 第102-104页 |
| ·最大光线入射角 | 第104页 |
| ·光刻成像模拟 | 第104-105页 |
| ·结论 | 第105-107页 |
| 第4章 公差分析与像质补偿 | 第107-131页 |
| ·公差的敏感度分析 | 第107-112页 |
| ·基于波像差空间频率的像质补偿 | 第112-113页 |
| ·复算 | 第113-114页 |
| ·计算机辅助装配调整 | 第114-118页 |
| ·面形精修与高阶像差补偿 | 第118-123页 |
| ·确定性加工技术与离子束面形精修 | 第118-120页 |
| ·元件面形精修函数的计算与优化 | 第120-123页 |
| ·元件面形精修的模拟与仿真 | 第123-130页 |
| ·面形精修元件敏感系数的计算 | 第123-124页 |
| ·系统波像差设计名义值的补偿 | 第124-127页 |
| ·材料折射率不均匀性的补偿 | 第127-130页 |
| ·结论 | 第130-131页 |
| 第5章 结论 | 第131-133页 |
| ·工作总结 | 第131-132页 |
| ·主要研究成果及创新点 | 第132页 |
| ·工作展望 | 第132页 |
| ·结束语 | 第132-133页 |
| 参考文献 | 第133-139页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第139-140页 |
| 指导教师及作者简介 | 第140-141页 |
| 致谢 | 第141页 |