摘要 | 第5-7页 |
abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-21页 |
1.1 食物过敏概述 | 第12-13页 |
1.1.1 食物过敏的定义 | 第12页 |
1.1.2 食物过敏的发病机理 | 第12-13页 |
1.2 大豆蛋白的分类及其致敏性 | 第13-15页 |
1.3 大豆过敏原脱敏方法的研究 | 第15-17页 |
1.4 噬菌体展示技术与生物信息学的应用 | 第17-18页 |
1.5 立题意义及研究内容 | 第18-20页 |
1.5.1 立题意义 | 第18页 |
1.5.2 研究内容 | 第18-20页 |
1.6 试验创新点 | 第20-21页 |
第二章 β-伴大豆球蛋白处理条件的研究 | 第21-44页 |
2.1 前言 | 第21-22页 |
2.2 材料与仪器设备 | 第22-24页 |
2.2.1 试验原料和试剂 | 第22页 |
2.2.2 试验仪器及设备 | 第22-23页 |
2.2.3 试验溶液及配制比例 | 第23-24页 |
2.3 试验方法 | 第24-28页 |
2.3.1 β-伴大豆球蛋白的分离纯化及鉴定 | 第24-25页 |
2.3.2 β-伴大豆球蛋白超高静压处理条件研究 | 第25-26页 |
2.3.3 响应面法对β-伴大豆球蛋白超高静压处理条件进行优化 | 第26页 |
2.3.4 超高静压处理对β-伴大豆球蛋白结构性质的影响 | 第26-28页 |
2.3.5 β-伴大豆球蛋白热处理条件的研究 | 第28页 |
2.3.6 β-伴大豆球蛋白糖基化处理条件的研究 | 第28页 |
2.4 结果与讨论 | 第28-42页 |
2.4.1 β-伴大豆球蛋白的分离纯化及鉴定 | 第28-30页 |
2.4.2 β-伴大豆球蛋白超高静压处理条件研究 | 第30-32页 |
2.4.3 响应面试验结果 | 第32-35页 |
2.4.4 超高静压处理对β-伴大豆球蛋白结构性质的影响 | 第35-40页 |
2.4.5 β-伴大豆球蛋白热处理条件的研究 | 第40-41页 |
2.4.6 β-伴大豆球蛋白糖基化处理条件的研究 | 第41-42页 |
2.5 小结 | 第42-44页 |
第三章 GlymBd60K全长及其overlapping片段的噬菌体展示 | 第44-58页 |
3.1 前言 | 第44页 |
3.2 材料与仪器设备 | 第44-45页 |
3.2.1 试验原料和试剂 | 第44-45页 |
3.2.2 试验仪器及设备 | 第45页 |
3.3 试验方法 | 第45-51页 |
3.3.1 GlymBd60K构象表位预测及分段 | 第45-46页 |
3.3.2 GlymBd60K基因及其overlapping片段克隆载体的构建 | 第46-49页 |
3.3.3 GlymBd60K基因及其overlapping片段的噬菌体展示 | 第49-51页 |
3.4 结果与讨论 | 第51-57页 |
3.4.1 GlymBd60K构象表位预测及overlapping分段 | 第51-52页 |
3.4.2 GlymBd60K基因及其overlapping片段克隆载体的构建 | 第52-54页 |
3.4.3 GlymBd60K基因及其overlapping片段的噬菌体展示 | 第54-57页 |
3.5 小结 | 第57-58页 |
第四章 GlymBd60K蛋白被破坏抗原表位的定位 | 第58-69页 |
4.1 引言 | 第58页 |
4.2 材料与仪器设备 | 第58页 |
4.2.1 试验原料和试剂 | 第58页 |
4.2.2 试验仪器及设备 | 第58页 |
4.3 试验方法 | 第58-59页 |
4.3.1 加工破坏抗原表位特异性抗体的制备 | 第58页 |
4.3.2 间接竞争ELISA法检测加工破坏抗原区域 | 第58-59页 |
4.3.3 GlymBd60K加工破坏抗原区域的精确定位 | 第59页 |
4.3.4 致敏性分析 | 第59页 |
4.3.5 被破坏过敏原表位二级结构分析 | 第59页 |
4.4 结果与讨论 | 第59-67页 |
4.4.1 加工破坏抗原区域 | 第59-60页 |
4.4.2 C片段基因分段及其overlapping片段克隆载体的构建 | 第60-62页 |
4.4.3 C片段及其overlapping片段的噬菌体展示 | 第62-63页 |
4.4.4 加工破坏抗原区域 | 第63页 |
4.4.5 C2片段基因分段及其overlapping片段克隆载体的构建 | 第63-65页 |
4.4.6 C2片段及其overlapping片段的噬菌体展示 | 第65-66页 |
4.4.7 加工破坏抗原区域 | 第66-67页 |
4.4.8 致敏性分析 | 第67页 |
4.4.9 被破坏的过敏原表位的二级结构预测 | 第67页 |
4.5 本章小结 | 第67-69页 |
第五章 overlapping多肽合成技术定位线性结合表位 | 第69-78页 |
5.1 引言 | 第69页 |
5.2 材料与仪器设备 | 第69-70页 |
5.2.1 试验原料和试剂 | 第69页 |
5.2.2 试验溶液及配制比例 | 第69-70页 |
5.3 试验方法 | 第70-71页 |
5.3.1 多肽合成 | 第70页 |
5.3.2 多肽的偶联与鉴定 | 第70-71页 |
5.3.3 表位鉴定 | 第71页 |
5.3.4 致敏性分析 | 第71页 |
5.3.5 多肽与抗血清及加工破坏抗原表位特异性抗体反应的比较 | 第71页 |
5.3.6 关键氨基酸的确定 | 第71页 |
5.4 结果与分析 | 第71-77页 |
5.4.1 多肽的合成 | 第71-73页 |
5.4.2 偶联多肽的鉴定 | 第73页 |
5.4.3 表位鉴定 | 第73-75页 |
5.4.4 致敏性分析 | 第75页 |
5.4.5 多肽与抗血清及加工破坏抗原表位特异性抗体反应的比较 | 第75-76页 |
5.4.6 关键氨基酸的确定 | 第76-77页 |
5.5 本章小结 | 第77-78页 |
结论 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-89页 |
致谢 | 第89-90页 |
个人简历 | 第90-91页 |