掩模板光刻工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-19页 |
| 第一节 光掩膜简介 | 第6-12页 |
| 第二节 光掩膜制作流程 | 第12-15页 |
| 第三节 选题的背景和目的意义 | 第15-16页 |
| 第四节 本文的研究目标与内容 | 第16-19页 |
| 第二章 电子束曝光技术 | 第19-35页 |
| 第一节 电子束光刻设备的最新进展 | 第19-20页 |
| 第二节 电子束光刻设备的原理和关键技术 | 第20-23页 |
| 第三节 电子束光刻设备重要部件介绍 | 第23-25页 |
| 第四节 实验设备简介 | 第25-26页 |
| 第五节 设备性能调整工艺 | 第26-34页 |
| 第六节 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 光刻胶工艺技术研究 | 第35-46页 |
| 第一节 光刻胶材料介绍 | 第35-36页 |
| 第二节 电子光刻胶工艺关键性能 | 第36-38页 |
| 第三节 光刻胶图形质量评价 | 第38-39页 |
| 第四节 光刻胶选型实验 | 第39-45页 |
| 第五节 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 电子束曝光邻近效应研究 | 第46-54页 |
| 第一节 邻近效应产生机制 | 第46-47页 |
| 第二节 邻近效应校正方法 | 第47-48页 |
| 第三节 散射参数 | 第48-49页 |
| 第四节 曝光剂量Dose和散射参数η提取实验 | 第49-53页 |
| 第五节 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 掩膜板临界尺寸均匀度光刻工艺补偿法 | 第54-59页 |
| 第一节 工艺对掩膜板临界尺寸均匀度的影响 | 第54-55页 |
| 第二节 实验设计思想 | 第55-57页 |
| 第三节 改善结果和讨论 | 第57-58页 |
| 第四节 本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 总结和展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
