| 摘要 | 第3-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第18-33页 |
| 1.1 引言 | 第18页 |
| 1.2 金属电极传感器概述 | 第18-19页 |
| 1.2.1 定义、分类 | 第18-19页 |
| 1.2.2 特征、指标 | 第19页 |
| 1.3 阵列金属电极传感器在食品科学中的应用 | 第19-21页 |
| 1.3.1 酒水饮料中的应用 | 第20页 |
| 1.3.2 果蔬食品中的应用 | 第20页 |
| 1.3.3 生鲜食品中的应用 | 第20-21页 |
| 1.3.4 其它食品中的应用 | 第21页 |
| 1.4 金属电极传感器表征研究 | 第21-26页 |
| 1.4.1 表面物性表征 | 第21-23页 |
| 1.4.2 谱学表征 | 第23-25页 |
| 1.4.3 电化学特性表征 | 第25-26页 |
| 1.5 金属电极传感器清洗技术研究 | 第26-30页 |
| 1.5.1 原位清洗与异位清洗 | 第26-27页 |
| 1.5.2 化学(溶剂)清洗 | 第27页 |
| 1.5.3 物理清洗 | 第27-28页 |
| 1.5.4 电化学清洗 | 第28-29页 |
| 1.5.5 等离子体清洗 | 第29-30页 |
| 1.6 研究意义、内容与思路方案 | 第30-33页 |
| 1.6.1 研究目的、意义 | 第30-31页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第31-32页 |
| 1.6.3 研究思路和方案 | 第32-33页 |
| 第2章 电子舌阵列金属电极表征方法的建立 | 第33-52页 |
| 2.1 引言 | 第33页 |
| 2.2 电子舌智能感官分析检测系统 | 第33-43页 |
| 2.2.1 硬件 | 第33-35页 |
| 2.2.2 软件 | 第35-36页 |
| 2.2.3 操作过程、参数 | 第36-37页 |
| 2.2.4 数据处理方法 | 第37-39页 |
| 2.2.5 电极表面复活、失活及清洗处理方法 | 第39-41页 |
| 2.2.6 样品体系及操作条件、方法 | 第41-43页 |
| 2.3 表征方法的建立与分析 | 第43-50页 |
| 2.3.1 鉴别力(RC)表征法 | 第43-44页 |
| 2.3.2 离散度(MD)表征法 | 第44-45页 |
| 2.3.3 灵敏度(S)表征法 | 第45-46页 |
| 2.3.4 SEM表征法 | 第46页 |
| 2.3.5 湿润性表征法 | 第46-47页 |
| 2.3.6 RS分析法 | 第47页 |
| 2.3.7 CV表征法 | 第47-48页 |
| 2.3.8 CA表征法 | 第48-49页 |
| 2.3.9 GC-MS定性分析法 | 第49-50页 |
| 2.3.10 复(失)活率定量评价法 | 第50页 |
| 2.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第3章 电子舌阵列金属电极表面失活机制研究 | 第52-81页 |
| 3.1 引言 | 第52页 |
| 3.2 实验部分 | 第52-54页 |
| 3.2.1 试剂材料 | 第52-53页 |
| 3.2.2 仪器装置 | 第53-54页 |
| 3.2.3 实验方法 | 第54页 |
| 3.3 结果与分析 | 第54-79页 |
| 3.3.1 鉴别力(RC)分析 | 第54-59页 |
| 3.3.2 离散度(MD)分析 | 第59-64页 |
| 3.3.3 灵敏度(S)分析 | 第64-65页 |
| 3.3.4 SEM形貌分析 | 第65-69页 |
| 3.3.5 湿润性分析 | 第69-70页 |
| 3.3.6 拉曼光谱(RS)分析 | 第70-71页 |
| 3.3.7 CV分析 | 第71-72页 |
| 3.3.8 CA分析 | 第72-74页 |
| 3.3.9 GC-MS分析 | 第74-78页 |
| 3.3.10 失活率(D)定量分析 | 第78-79页 |
| 3.3.11 电子舌阵列金属电极表面失活机制分析 | 第79页 |
| 3.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 第4章 化学溶剂原位清洗复活系统的实验研究 | 第81-95页 |
| 4.1 引言 | 第81页 |
| 4.2 实验部分 | 第81-82页 |
| 4.2.1 试剂材料 | 第81-82页 |
| 4.2.2 仪器装置 | 第82页 |
| 4.2.3 实验方法 | 第82页 |
| 4.3 电子舌化学溶剂原位清洗复活系统的构建研究 | 第82-86页 |
| 4.3.1 功能设计 | 第82页 |
| 4.3.2 结构材料 | 第82-84页 |
| 4.3.3 控制电路实现 | 第84-85页 |
| 4.3.4 清洗复活过程及程序开发 | 第85-86页 |
| 4.4 实验条件优化与理论分析 | 第86-93页 |
| 4.4.1 超声波的优化与分析 | 第86-88页 |
| 4.4.2 清洗剂的优化与分析 | 第88-90页 |
| 4.4.3 多溶液组合清洗的优化与分析 | 第90-91页 |
| 4.4.4 风干、搅拌的优化与分析 | 第91-93页 |
| 4.5 应用实验评价 | 第93-94页 |
| 4.6 本章小结 | 第94-95页 |
| 第5章 电化学原位清洗复活系统的实验研究 | 第95-113页 |
| 5.1 引言 | 第95页 |
| 5.2 实验部分 | 第95-98页 |
| 5.2.1 试剂材料 | 第95-96页 |
| 5.2.2 仪器装置 | 第96页 |
| 5.2.3 实验及设计方法 | 第96-98页 |
| 5.3 电子舌电化学原位清洗复活系统的构建研究 | 第98-102页 |
| 5.3.1 功能设计 | 第98页 |
| 5.3.2 结构材料 | 第98-99页 |
| 5.3.3 控制电路实现 | 第99-100页 |
| 5.3.4 清洗过程及程序开发 | 第100-102页 |
| 5.4 实验条件优化与理论分析 | 第102-110页 |
| 5.4.1 清洗电压区间的选择与分析 | 第102-103页 |
| 5.4.2 清洗液的优化与分析 | 第103-104页 |
| 5.4.3 气泡影响及搅拌的优化与分析 | 第104-105页 |
| 5.4.4 清洗时间区间的选择与分析 | 第105-107页 |
| 5.4.5 清洗电压、时间的优化方法 | 第107-109页 |
| 5.4.6 清洗电压、时间优化与分析 | 第109-110页 |
| 5.5 应用实验评价 | 第110-111页 |
| 5.6 本章小结 | 第111-113页 |
| 第6章 等离子体原位清洗复活系统的实验研究 | 第113-126页 |
| 6.1 引言 | 第113页 |
| 6.2 实验部分 | 第113-114页 |
| 6.2.1 试剂材料 | 第113-114页 |
| 6.2.2 仪器装置 | 第114页 |
| 6.2.3 实验方法 | 第114页 |
| 6.3 等离子体原位清洗复活系统的构建研究 | 第114-117页 |
| 6.3.1 功能设计 | 第114-115页 |
| 6.3.2 结构材料 | 第115-116页 |
| 6.3.3 控制电路实现 | 第116-117页 |
| 6.3.4 清洗复活过程与程序开发 | 第117页 |
| 6.4 实验条件优化与理论分析 | 第117-123页 |
| 6.4.1 放电方式选择与分析 | 第117-119页 |
| 6.4.2 放电电压优化与分析 | 第119-120页 |
| 6.4.3 清洗(放电)时间优化与分析 | 第120-122页 |
| 6.4.4 放电距离优化与分析 | 第122-123页 |
| 6.5 应用实验评价 | 第123-125页 |
| 6.6 本章小结 | 第125-126页 |
| 第7章 结论与展望 | 第126-130页 |
| 7.1 工作总结与创新点 | 第126-128页 |
| 7.1.1 研究工作总结 | 第126-127页 |
| 7.1.2 研究工作创新点 | 第127-128页 |
| 7.2 工作展望及组合清洗复活系统的构想 | 第128-130页 |
| 7.2.1 工作展望 | 第128-129页 |
| 7.2.2 电子舌原位组合清洗复活系统的构想 | 第129-130页 |
| 参考文献 | 第130-141页 |
| 附录 | 第141-154页 |
| 1. 电子舌化学溶剂原位清洗复活系统程序开发核心代码 | 第141-145页 |
| 2. 电子舌电化学原位清洗复活系统程序开发核心代码 | 第145-150页 |
| 3. 电子舌等离子体原位清洗复活系统程序开发核心代码 | 第150-154页 |
| 攻读博士期间的研究成果 | 第154-155页 |
| 谢辞 | 第155-156页 |
