磁约束磁控溅射源的关键技术研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| ·真空镀膜技术概述 | 第8-10页 |
| ·物理气相沉积技术 | 第8-9页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第9-10页 |
| ·磁控溅射技术的发展状况及应用 | 第10-17页 |
| ·磁控溅射技术 | 第10页 |
| ·磁控溅射技术的发展状况及应用 | 第10-17页 |
| ·本文的主要内容和研究方法 | 第17页 |
| ·本文的主要内容 | 第17页 |
| ·本文的研究方法 | 第17页 |
| ·本文的内容安排 | 第17-18页 |
| 2 原理及理论分析 | 第18-21页 |
| ·磁控溅射的工作原理 | 第18页 |
| ·磁约束原理 | 第18-19页 |
| ·磁约束磁控溅射源的理论验证 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 3 磁约束磁控溅射源1的实验测试 | 第21-35页 |
| ·单排弱磁场约束方式 | 第22-25页 |
| ·单排更弱磁场约束方式 | 第25-26页 |
| ·单排较强磁场约束方式 | 第26-28页 |
| ·单排强磁场约束方式 | 第28-30页 |
| ·中间加强型磁场约束方式 | 第30-31页 |
| ·两端加强型磁场约束方式 | 第31-33页 |
| ·三排强磁场约束方式 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 4 磁约束磁控溅射源2的设计 | 第35-67页 |
| ·磁场的设计 | 第35-53页 |
| ·磁场的计算方法 | 第35-41页 |
| ·模拟仿真方法的介绍 | 第41-42页 |
| ·磁场的模拟仿真可行性探讨 | 第42-50页 |
| ·磁场的模拟与设计 | 第50-53页 |
| ·电场的设计 | 第53-54页 |
| ·靶结构的设计 | 第54-57页 |
| ·靶的种类和结构确定方法 | 第54-56页 |
| ·靶的整体设计 | 第56-57页 |
| ·冷却系统的设计 | 第57-59页 |
| ·靶材的冷却系统 | 第57-58页 |
| ·磁铁的冷却系统 | 第58-59页 |
| ·通气系统的设计 | 第59-60页 |
| ·绝缘性与密封性的设计 | 第60-63页 |
| ·绝缘性的设计 | 第60-62页 |
| ·密封性的设计 | 第62-63页 |
| ·壳体结构的设计 | 第63-66页 |
| ·本章总结 | 第66-67页 |
| 5 结论 | 第67-70页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| ·工作总结与后续工作展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-76页 |
