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CMOS工艺兼容的表面等离激元器件关键技术研究

致谢第4-5页
摘要第5-7页
Abstract第7-8页
部分短语中英文对照第11-12页
第1章 绪论第12-24页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 表面等离子光子学概述第13-14页
    1.3 国内外研究现状第14-22页
        1.3.1 基于表面等离激元的偏振器第14-17页
        1.3.2 基于表面等离激元的偏振分束器第17-20页
        1.3.3 基于表面等离激元的石墨烯电光调制器第20-22页
    1.4 本文的主要研究内容和章节安排第22-24页
第2章 硅波导和石墨烯电光调制理论基础第24-35页
    2.1 硅波导理论基础第24-28页
        2.1.1 金属波导理论第24-26页
        2.1.2 耦合模式理论第26-27页
        2.1.3 定向耦合第27-28页
    2.2 石墨烯材料建模和调控方法第28-32页
        2.2.1 光频段的石墨烯材料参数建模第28-30页
        2.2.2 石墨烯材料参数的调控方法第30-32页
    2.3 石墨烯调制器原理以及性能参数简介第32-34页
        2.3.1 调制效率第32-33页
        2.3.2 消光比第33页
        2.3.3 工作带宽和功耗第33-34页
    2.4 本章小结第34-35页
第3章 基于表面等离激元的偏振器研究第35-49页
    3.1 引言第35-36页
    3.2 基于HPW的双层波导结构的TE-pass偏振器第36-40页
        3.2.1 结构设计第36-37页
        3.2.2 工作原理和性能分析第37-40页
    3.3 基于HPW的脊形波导辅助的TE-pass偏振器第40-48页
        3.3.1 结构设计第40-41页
        3.3.2 工作原理和性能分析第41-48页
    3.4 本章小结第48-49页
第4章 基于表面等离激元的偏振分束器的研究第49-58页
    4.1 引言第49-50页
    4.2 结构设计第50-51页
    4.3 工作原理与性能分析第51-56页
    4.4 本章小结第56-58页
第5章 基于表面等离激元的石墨烯电光调制器研究第58-68页
    5.1 引言第58-59页
    5.2 结构设计第59-60页
    5.3 工作原理和性能分析第60-66页
    5.4 本章小结第66-68页
第6章 总结与展望第68-70页
    6.1 工作总结第68-69页
    6.2 工作展望第69-70页
参考文献第70-76页
攻读硕士学麵间拽的研宄成果及荣喾奖项第76页

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