离子注入机均匀性的改进设计
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·离子注入工艺简介 | 第8页 |
| ·注入工艺中常见问题 | 第8-11页 |
| ·离子注入工艺关键参数 | 第11页 |
| ·离子注入工艺在芯片上的测试实验 | 第11-12页 |
| ·本论文的研究内容 | 第12-14页 |
| 第二章 注入机简介 | 第14-18页 |
| ·注入机原理 | 第14页 |
| ·离子注入机的组成 | 第14-16页 |
| ·注入机特点 | 第16-18页 |
| 第三章 注入后退火简介 | 第18-23页 |
| ·退火原理 | 第18-21页 |
| ·退火设备介绍 | 第21-23页 |
| 第四章 注入均匀性测试原理 | 第23-26页 |
| ·注入均匀性测量方法介绍 | 第23-24页 |
| ·实验设备及统计方法 | 第24-26页 |
| 第五章 真空系统和均匀性关系研究 | 第26-51页 |
| ·真空系统的原理 | 第26页 |
| ·真空泵工作原理 | 第26-33页 |
| ·旋片式机械真空泵工作原理 | 第26-27页 |
| ·冷泵原理 | 第27-31页 |
| ·扩散泵工作原理 | 第31-32页 |
| ·测量方式分类 | 第32-33页 |
| ·离子束在真空系统的传输 | 第33-35页 |
| ·各部分真空对均匀性的影响 | 第35-51页 |
| ·源端真空对均匀性的影响 | 第36-41页 |
| ·束线真空对均匀性的影响 | 第41-46页 |
| ·末端真空对均匀性的影响 | 第46-51页 |
| 第六章 离子源系统弧流稳定性对均匀性的影响 | 第51-54页 |
| ·灯丝电流的影响 | 第51-52页 |
| ·源磁电流的影响 | 第52页 |
| ·离子源长期工作对弧流稳定性影响 | 第52-54页 |
| 第七章 离子的分析和聚焦 | 第54-57页 |
| ·离子束的聚焦 | 第54-55页 |
| ·分析磁场 | 第55-57页 |
| 第八章 离子检测系统与均匀性关系研究 | 第57-60页 |
| ·离子检测系统原理及示意图 | 第57-58页 |
| ·影响测量精度的因素研究 | 第58-59页 |
| ·改进方案 | 第59-60页 |
| 第九章 扫描系统与均匀性关系研究 | 第60-66页 |
| ·扫描系统原理及其示意图 | 第60-61页 |
| ·注入故障暂停引起Y 扫描暂停对均匀性的影响 | 第61-66页 |
| 第十章 结论 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
