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纳米尺度下集成电路的抗辐射加固技术研究

致谢第7-8页
摘要第8-9页
abstract第9-10页
第1章 绪论第15-22页
    1.1 研究课题的背景及意义第15-18页
    1.2 国内外研究现状第18-20页
        1.2.1 电荷共享效应的研究第18-19页
        1.2.2 研究现状第19-20页
    1.3 本文的研究内容和组织结构第20-22页
        1.3.1 研究内容第20页
        1.3.2 组织结构第20-22页
第2章 单粒子效应的基础知识第22-28页
    2.1 辐射环境第22-23页
        2.1.1 空间辐射环境第22页
        2.1.2 大气辐射环境第22-23页
        2.1.3 地面辐射环境第23页
    2.2 辐射效应第23-25页
        2.2.1 单粒子效应第23-24页
        2.2.2 单粒子翻转和单粒子瞬态第24-25页
        2.2.3 电荷收集机理第25页
    2.3 单粒子效应的建模第25-26页
        2.3.1 器件级建模第25页
        2.3.2 电路级建模第25页
        2.3.3 器件/电路混合建模第25-26页
    2.4 HSPICE仿真工具第26-27页
    2.5 本章小结第27-28页
第3章 抗辐射加固锁存器方法概述第28-45页
    3.1 工艺级加固第28页
    3.2 系统级加固第28-29页
    3.3 电路级加固第29-44页
        3.3.1 标准静态锁存器第29-30页
        3.3.2 DICE第30-32页
        3.3.3 TMR锁存器第32-33页
        3.3.4 FERST锁存器第33-34页
        3.3.5 DNCS-SEU锁存器第34-35页
        3.3.6 DNCS-SEUTL锁存器第35-36页
        3.3.7 NTHLTCH锁存器第36-37页
        3.3.8 使用DICE结构加固的D触发器第37-38页
        3.3.9 STSRL锁存器第38-39页
        3.3.10 SINV锁存器第39-40页
        3.3.11 冗余矩阵锁存器第40-41页
        3.3.12 ISEHL锁存器第41-43页
        3.3.13 STHTI锁存器第43-44页
    3.4 本章小结第44-45页
第4章 提出的双点翻转加固锁存器设计第45-58页
    4.1 三模冗余技术第45页
    4.2 加固锁存器组成模块第45-47页
    4.3 TMR-2D1R锁存器第47-50页
        4.3.1 电路结构和工作原理第47-48页
        4.3.2 容错原理第48-49页
        4.3.3 仿真验证第49-50页
    4.4 TMR-1D2R锁存器第50-53页
        4.4.1 电路结构和工作原理第50-51页
        4.4.2 容错原理第51-52页
        4.4.3 仿真验证第52-53页
    4.5 TMR-3R锁存器第53-55页
        4.5.1 电路结构和工作原理第53页
        4.5.2 容错原理第53-54页
        4.5.3 仿真验证第54-55页
    4.6 容错性能分析第55-56页
        4.6.1 容错能力分析比较第55页
        4.6.2 开销比较第55-56页
    4.7 本章小结第56-58页
第5章 总结和展望第58-59页
    5.1 全文总结第58页
    5.2 研究工作展望第58-59页
参考文献第59-63页
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况第63-64页

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