| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-16页 |
| ·分子级空气污染物的定义及分类 | 第12-13页 |
| ·分子级空气污染物的污染源及控制方法分析 | 第13-14页 |
| ·分子级空气污染物的污染源分析 | 第13页 |
| ·分子级空气污染物的污染源控制方法 | 第13-14页 |
| ·分析仪器在半导体AMC控制方面的应用及前景 | 第14-15页 |
| ·论文的主要内容与章节安排 | 第15-16页 |
| ·论文的主要内容 | 第15页 |
| ·论文的章节安排 | 第15-16页 |
| 第二章 离子色谱和预浓缩气相色谱质谱介绍 | 第16-28页 |
| ·色谱的基本概念 | 第16页 |
| ·离子色谱介绍 | 第16-23页 |
| ·离子色谱的原理 | 第16-20页 |
| ·离子色谱的定量方法 | 第20-21页 |
| ·离子色谱的优点 | 第21页 |
| ·实验仪器及样品分析方法 | 第21-23页 |
| ·预浓缩气相色谱质谱介绍 | 第23-27页 |
| ·预浓缩气相色谱质谱的原理 | 第23-25页 |
| ·预浓缩气相色谱质谱的定量方法 | 第25-26页 |
| ·预浓缩气相色谱质谱的优点 | 第26页 |
| ·实验仪器及色谱条件 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 造成 CRYSTALDEFECT 的氟离子来源研究 | 第28-39页 |
| ·Crystal defect及成因介绍 | 第28-29页 |
| ·造成Crystal defect的氟离子来源研究 | 第29-31页 |
| ·分批实验验证氟离子来源 | 第29-30页 |
| ·Pod内部氟离子污染测试 | 第30-31页 |
| ·Pod和cassette中氟离子来源及机理研究 | 第31-35页 |
| ·pod和cassette中氟离子来源研究 | 第31-34页 |
| ·Pod和cassette污染机理研究 | 第34-35页 |
| ·Pod和cassette清洗方法及机理研究 | 第35-38页 |
| ·Pod和cassette清洗方法研究 | 第35-37页 |
| ·清洗机理研究 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 引起 CRATER DEFECT 的原因及 VOC 来源研究 | 第39-50页 |
| ·Crater defect介绍 | 第39-41页 |
| ·Crater defect与VOC的相关性研究 | 第41-42页 |
| ·甲苯实验验证crater defect与VOC的关系 | 第42-44页 |
| ·Crater defect的形成机理 | 第44-45页 |
| ·VOC污染源研究 | 第45-48页 |
| ·外源污染 | 第45-46页 |
| ·内源污染 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第五章 引起缺陷的环境因素的控制方法 | 第50-69页 |
| ·氟离子污染源控制方法 | 第51-59页 |
| ·洁净室大环境控制 | 第51-57页 |
| ·晶片小环境控制 | 第57-59页 |
| ·VOC污染源控制方法 | 第59-67页 |
| ·洁净室大环境控制 | 第59-65页 |
| ·污染源源头控制 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 结论与展望 | 第69-73页 |
| ·结论 | 第69-71页 |
| ·展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第78-80页 |
