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射频TSV转接板技术基础研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第10-22页
    1.1 TSV转接板概述第10页
    1.2 TSV转接板在射频领域的应用现状第10-16页
    1.3 射频TSV转接板技术所面1临的问题及相关研究第16-20页
    1.4 选题内容及研究目标第20页
    1.5 论文内容安排第20-22页
第二章 射频转接板TSV互连结构设计第22-34页
    2.1 引言第22页
    2.2 热应力分析解析模型第22-25页
    2.3 TSV转接板影响因素分析第25-31页
        2.3.1 位置r与热应力的关系第25-27页
        2.3.2 温度变化量与热应力的关系第27-28页
        2.3.3 衬底半径与通孔半径比值q与热应力的关系第28-30页
        2.3.4 环形铜TSV内外半径的比值k与热应力的关系第30-31页
    2.4 射频TSV转接板TSV结构设计第31-32页
    2.5 总结第32-34页
第三章 射频TSV转接板工艺研究第34-60页
    3.1 引言第34页
    3.2 TSV工艺流程第34-36页
    3.3 射频TSV转接板工艺设计第36-55页
        3.3.1 射频TSV转接板工艺流程方案1第36-48页
        3.3.2 射频TSV转接板工艺流程方案2第48-55页
    3.4 电镀方案分析第55-58页
    3.5 小结第58-60页
第四章 射频TSV转接板评估分析第60-82页
    4.1 引言第60页
    4.2 应力强度分析及热疲劳分析第60-63页
        4.2.2 畸变能密度理论(Von Mises准则)第60-61页
        4.2.3 疲劳分析基本理论第61-63页
    4.3 封装体热应力仿真第63-74页
        4.3.1 建立仿真模型第63-65页
        4.3.2 设置材料属性及仿真单元类型第65-66页
        4.3.3 网格划分第66-67页
        4.3.4 温度载荷施加第67页
        4.3.5 仿真结果分析第67-74页
    4.5 TSV转接板热应力仿真第74-78页
        4.5.1 建立仿真模型第74-75页
        4.5.2 仿真结果分析第75-78页
    4.6 TSV的热应力强度分析第78-79页
    4.7 TSV的热疲劳分析第79-80页
    4.8 小结第80-82页
第五章 总结与展望第82-84页
    5.1 研究工作总结第82页
    5.2 研究工作展望第82-84页
参考文献第84-90页
在学期间的研究成果第90-91页
致谢第91-92页

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