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界面电子和化学结构的X射线光谱学研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第12-23页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 SiC的基本性质与光电化学电池应用中的研究现状第13-16页
    1.3 ZnO的基本性质及其在光伏电池应用中的研究现状第16-17页
    1.4 选题意义第17页
    1.5 本文主要研究内容第17-19页
    参考文献第19-23页
第二章 SiC和ZnO薄膜的制备技术与表征方法第23-38页
    2.1 SiC和ZnO薄膜的制备技术第23-28页
        2.1.1 磁控溅射原理第23-26页
        2.1.2 化学气相沉积法原理第26-28页
    2.2 a-SiC薄膜和ZnO纳米结构的表征方法第28-35页
        2.2.1 扫描电子显微镜第28-29页
        2.2.2 X射线吸收谱第29-30页
        2.2.3 X射线光电子能谱第30-33页
        2.2.4 x射线光谱学方法的特性第33-35页
    参考文献第35-38页
第三章 ZnO/CIGSe界面的电子和化学结构第38-49页
    3.1 引言第38页
    3.2 ZnO纳米结构的制备第38-39页
    3.3 实验结果与分析第39-46页
    3.4 总结第46-47页
    参考文献第47-49页
第四章 a-SiC/AZO的化学结构研究第49-58页
    4.1 引言第49页
    4.2 碳化硅薄膜的制备第49-50页
    4.3 实验结果及讨论第50-55页
    4.4 本章小结第55-56页
    参考文献第56-58页
第五章 总结与展望第58-59页
硕士期间发表专利第59-60页
致谢第60页

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