| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| CONTENES | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 光刻技术简介 | 第11页 |
| 1.2 光刻技术的发展历史 | 第11-13页 |
| 1.3 PCB光刻的国内外进展 | 第13-14页 |
| 1.4 本课题的重要意义 | 第14-16页 |
| 1.5 本课题研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 等比激光投影光刻技术和DMD动态无掩模光刻技术简介 | 第17-23页 |
| 2.1 等比激光投影光刻投影光刻技术 | 第17-19页 |
| 2.2 DMD动态无掩模光刻技术 | 第19-21页 |
| 2.2.1 DMD的内部结构 | 第19-20页 |
| 2.2.2 DMD动态无掩膜光刻的原理 | 第20-21页 |
| 2.3 两种光刻方法的优势整合 | 第21-23页 |
| 第三章 一种辨率为4μml的DMD光刻投影物镜设计 | 第23-32页 |
| 3.1 芯片选择 | 第23页 |
| 3.2 光学设计 | 第23-26页 |
| 3.2.1 设计要点 | 第23-24页 |
| 3.2.2 系统基本参数确定 | 第24-25页 |
| 3.2.3 设计过程 | 第25-26页 |
| 3.3 结果分析 | 第26-32页 |
| 3.3.1 点列图 | 第27-28页 |
| 3.3.2 光程差OPD | 第28页 |
| 3.3.3 调制传递函数MTF | 第28-29页 |
| 3.3.4 场区和畸变 | 第29-30页 |
| 3.3.5 像面相对照度 | 第30页 |
| 3.3.6 公差分析 | 第30-32页 |
| 第四章 8μm的折叠式光刻投影物镜设计 | 第32-40页 |
| 4.1 设计要点 | 第32-33页 |
| 4.2 设计过程 | 第33-35页 |
| 4.3 结果分析 | 第35-40页 |
| 4.3.1 点列图 | 第36-37页 |
| 4.3.2 光程差OPD | 第37页 |
| 4.3.3 调制传递函数MTF | 第37-38页 |
| 4.3.4 场区和畸变 | 第38页 |
| 4.3.5 像面相对照度 | 第38页 |
| 4.3.6 公差分析 | 第38-40页 |
| 第五章 反馈式精密二维位移平台设计 | 第40-46页 |
| 5.1 光刻系统的三大主体 | 第40页 |
| 5.2 精密二维位移平台的定位原理 | 第40-41页 |
| 5.3 设计过程 | 第41-45页 |
| 5.3.1 牵引驱动装置 | 第42-44页 |
| 5.3.2 基线瞄准装置 | 第44页 |
| 5.3.3 人机交互平台设计 | 第44-45页 |
| 5.4 设计结果 | 第45-46页 |
| 总结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52页 |