| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 课题的研究背景 | 第10-12页 |
| 1.2 表面等离子的相关研究背景 | 第12-16页 |
| 1.2.1 增强近场光刻 | 第13-14页 |
| 1.2.2 聚焦等离子光刻 | 第14-15页 |
| 1.2.3 超透镜光刻 | 第15-16页 |
| 1.3 提高超透镜光刻分辨力的主要方法与研究进展 | 第16-22页 |
| 1.3.1 采用金属-电介质多层膜结构 | 第16-17页 |
| 1.3.2 增加反射等离子层 | 第17-18页 |
| 1.3.3 减小膜层粗糙度 | 第18-19页 |
| 1.3.4 传统波前调控方法的新应用 | 第19-22页 |
| 1.4 本文研究目的和主要内容 | 第22-24页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第22页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 超透镜光刻的原理及数值计算方法 | 第24-35页 |
| 2.1 超透镜的电磁传输特性 | 第24-26页 |
| 2.2 表面等离子电磁理论 | 第26-28页 |
| 2.3 常见激发表面等离子的方式 | 第28-29页 |
| 2.4 电磁场的数值仿真模拟方法 | 第29-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 采用高数值孔径离轴照明提高超透镜光刻的成像性能研究 | 第35-45页 |
| 3.1 高数值孔径离轴照明的研究背景 | 第35页 |
| 3.2 原理与设计 | 第35-39页 |
| 3.3 离轴照明等离子透镜的电磁数值仿真 | 第39-40页 |
| 3.4 讨论 | 第40-44页 |
| 3.4.1 纳米图形分辨力的提升 | 第40-41页 |
| 3.4.2 空气间隙的延伸 | 第41-42页 |
| 3.4.3 非周期纳米图形的成像 | 第42-43页 |
| 3.4.4 二维纳米图形的成像 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 照明数值孔径的优化设计 | 第45-57页 |
| 4.1 银-光刻胶-银结构的优化设计 | 第45-53页 |
| 4.1.1 结构参数优化 | 第45-47页 |
| 4.1.2 一维光栅结构优化结果 | 第47-48页 |
| 4.1.3 一维离散结构的优化结果 | 第48-49页 |
| 4.1.4 二维实际光栅结构优化结果 | 第49-51页 |
| 4.1.5 二维复杂结构优化结果 | 第51-53页 |
| 4.2 光刻胶-银结构与银-光刻胶-银结构的对比 | 第53-56页 |
| 4.2.1 银-光刻胶-银结构单/双侧照明对比 | 第53-54页 |
| 4.2.2 膜层粗糙度对银-光刻胶-银结构的影响 | 第54-55页 |
| 4.2.3 单/双侧照明对光刻胶-银结构的影响 | 第55-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 离轴照明实验验证 | 第57-67页 |
| 5.1 实验的前期准备 | 第57-60页 |
| 5.1.1 机械件的设计 | 第57-59页 |
| 5.1.2 光学件的设计 | 第59-60页 |
| 5.2 光刻胶-银结构的高数值孔径离轴照明实验 | 第60-66页 |
| 5.2.1 大周期纳米图形实验 | 第62-64页 |
| 5.2.2 采用垂直照明验证气压装置的压紧能力 | 第64-65页 |
| 5.2.3 光刻胶-银结构的单侧离轴照明实验 | 第65-66页 |
| 5.3 本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 6.1 论文工作总结 | 第67页 |
| 6.2 论文工作展望 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第74-75页 |