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无核封装基板铜面修饰及界面结合效果的研究

摘要第5-6页
abstract第6-7页
第一章 绪论第11-21页
    1.1 无核封装基板介绍第11-14页
        1.1.1 封装基板第11页
        1.1.2 无核封装基板制造技术第11-12页
        1.1.3 封装基板的发展及应用第12-14页
    1.2 铜面修饰方法及研究现状第14-18页
        1.2.1 化学镀镍浸金第14-15页
        1.2.2 化学镀镍镀钯浸金第15-16页
        1.2.3 其它铜面修饰方法第16-17页
        1.2.4 镀镍技术的研究现状第17-18页
    1.3 层间结合力的研究现状第18-19页
        1.3.1 高锰酸钾除胶渣工艺第18页
        1.3.2 等离子处理工艺第18-19页
    1.4 本论文选题依据及研究内容第19-21页
        1.4.1 选题依据第19页
        1.4.2 研究内容第19-21页
第二章 低温下化学镀镍的研究第21-38页
    2.1 引言第21页
    2.2 实验第21-23页
        2.2.1 实验材料及基础镀液组成第21-22页
        2.2.2 实验流程与步骤第22页
        2.2.3 镀速的测定方法第22-23页
    2.3 实验结果与讨论第23-31页
        2.3.1 主盐浓度对镀速的影响第23页
        2.3.2 还原剂浓度对镀速的影响第23-24页
        2.3.3 络合剂浓度对镀速的影响第24-26页
        2.3.4 缓冲剂浓度对镀速的影响第26页
        2.3.5 镀液pH对镀速的影响第26-28页
        2.3.6 温度对镀速的影响第28页
        2.3.7 正交实验法优化镀镍液组分第28-31页
    2.4 最优化镍条件下镍层性能研究第31-35页
        2.4.1 镍层与基材的附着力第31-32页
        2.4.2 镍层表面形貌及EDX元素分析第32-33页
        2.4.3 镍层的截面形貌第33-34页
        2.4.4 老化测试第34-35页
    2.5 高温和低温条件下镀镍效果对比第35-36页
    2.6 本章小结第36-38页
第三章 铜面修饰效果对控制导电银胶扩散的研究第38-49页
    3.1 引言第38页
    3.2 实验部分第38-39页
        3.2.1 实验设备及材料第38页
        3.2.2 实验流程第38-39页
    3.3 导电银胶种类对扩散程度的影响第39-40页
    3.4 导电银胶在焊盘表面扩散的机理分析第40-42页
    3.5 铜面粗糙度对扩散程度的影响第42-46页
        3.5.1 不同铜面微蚀量第42-45页
        3.5.2 不同铜面微蚀体系第45-46页
    3.6 导电银胶在焊盘表面扩散效果的改善第46-47页
    3.7 本章小结第47-49页
第四章 铜种子层/树脂界面结合效果的研究第49-65页
    4.1 引言第49页
    4.2 实验部分第49-51页
        4.2.1 实验设备及材料第49页
        4.2.2 实验设计第49-50页
        4.2.3 实验流程第50-51页
        4.2.4 结合力测试第51页
    4.3 实验结果与讨论第51-62页
        4.3.1 高锰酸钾除胶渣处理对结合力的影响第51-52页
        4.3.2 等离子处理对结合力的影响第52-53页
        4.3.3 树脂表面的性能表征第53-57页
        4.3.4 拉力测试第57-58页
        4.3.5 氢氟酸处理对结合力的影响第58-60页
        4.3.6 种子层制作条件对结合力的影响第60-61页
        4.3.7 电镀后放置时间对结合力的影响第61-62页
    4.4 铜种子层/树脂界面结合力的改善第62-63页
    4.5 本章小结第63-65页
第五章 结论与展望第65-67页
    5.1 本文结论第65-66页
    5.2 展望第66-67页
致谢第67-68页
参考文献第68-72页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第72页

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