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印制电路板铜面镀锡技术的研究及应用

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第10-17页
    1.1 概论第10页
    1.2 电镀锡技术第10-13页
        1.2.1 电镀锡在印制电路中的应用与发展第10页
        1.2.2 电镀锡体系的分类第10-11页
        1.2.3 电镀锡添加剂的分类与发展第11-13页
    1.3 化学镀锡技术第13-15页
        1.3.1 化学镀锡在印制电路板中的应用与发展第13页
        1.3.2 国内外化学镀锡研究的现状第13-14页
        1.3.3 化学镀锡添加剂的研究第14-15页
    1.4 论文的选题依据与研究内容第15-17页
        1.4.1 课题来源第15-16页
        1.4.2 主要研究内容第16-17页
第二章 实验材料及研究方法第17-21页
    2.1 实验药品及材料第17-18页
    2.2 分析测试手段第18-20页
        2.2.1 电化学测试第18页
        2.2.2 X-Ray厚度测试第18页
        2.2.3 SEM测试第18-19页
        2.2.4 XRD测试第19页
        2.2.5 XPS测试第19页
        2.2.6 3D激光共焦显微镜测试第19-20页
        2.2.7 接触角测试第20页
    2.3 镀层性能测试第20-21页
        2.3.1 剥离强度测试第20页
        2.3.2 热震测试第20-21页
第三章 硫酸盐体系电镀锡的研究第21-34页
    3.1 电镀锡工艺流程第21-22页
        3.1.1 除油第21页
        3.1.2 微蚀第21页
        3.1.3 活化第21页
        3.1.4 电镀锡第21-22页
    3.2 硫酸盐电镀锡添加剂的研究第22-28页
        3.2.1 镀液稳定性测试第22页
        3.2.2 酒石酸钾钠对电镀锡的影响第22-23页
        3.2.3 辛烷基苯酚-10对电镀锡的影响第23-24页
        3.2.4 2-巯基苯并咪唑对电镀锡的影响第24-25页
        3.2.5 甲醛对电镀锡的影响第25-26页
        3.2.6 复合添加剂对电镀锡的影响第26-28页
    3.3 电流密度对光亮镀锡的影响第28-32页
        3.3.1 电流密度对时间-电位曲线的影响第28-29页
        3.3.2 电流密度对晶粒取向的影响第29-30页
        3.3.3 电流密度对镀层形貌的影响第30-31页
        3.3.4 电流密度对沉积厚度和电流效率的影响第31-32页
    3.4 本章小结第32-34页
第四章 硫酸盐体系化学镀锡的研究第34-48页
    4.1 化学镀锡工艺流程第34页
        4.1.1 化学镀锡第34页
        4.1.2 退火第34页
    4.2 化学镀锡液组成及工艺的研究第34-41页
        4.2.1 镀锡液各成分浓度的研究第34-39页
        4.2.2 正交优化实验第39-41页
    4.3 施镀时间的影响第41-42页
        4.3.1 施镀时间对厚度的影响第41页
        4.3.2 施镀时间对形貌的影响第41-42页
    4.4 退火工艺对镀层结构的影响第42-44页
    4.5 镀层抗蚀性的研究第44-46页
        4.5.1 施镀时间对抗蚀性的影响第44-45页
        4.5.2 退火工艺对镀层抗蚀性的影响第45-46页
    4.6 本章小结第46-48页
第五章 化学镀锡及半固化片改性增强内层结合力的研究第48-66页
    5.1 印制电路内层压合工艺及结合原理第48-53页
        5.1.1 环氧树脂结合原理第48-50页
        5.1.2 环氧树脂表面处理工艺第50-52页
        5.1.3 铜层表面处理工艺第52-53页
    5.2 等离子改性不流动性半固化片增强内层结合力的研究第53-61页
        5.2.0 等离子改性工艺流程第53-54页
        5.2.1 等离子改性对表面形貌的影响第54-55页
        5.2.2 等离子改性对表面成分的影响第55-58页
        5.2.3 等离子处理对表面粗糙度的影响第58-59页
        5.2.4 等离子处理对表面接触角的影响第59-60页
        5.2.5 等离子处理对表面结合力的影响第60-61页
    5.3 化学镀锡代替棕化工艺增强内层结合力的研究第61-65页
        5.3.2 施镀时间对镀层表面粗糙度的影响第61-62页
        5.3.3 退火工艺对镀层表面氧含量及剥离强度的影响第62-63页
        5.3.4 压合后印制电路板的热可靠性研究第63-65页
    5.4 本章小结第65-66页
第六章 结论第66-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-76页
攻读硕士学位期间取得的成果第76页

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