首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--微电子学、集成电路(IC)论文--一般性问题论文--制造工艺论文

集成电路铜互连热应力仿真分析研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-18页
   ·研究背景及意义第10-11页
   ·铜互连发展与研究历程第11-13页
     ·铜互连的研究历程第11-12页
     ·铜互连可靠性国内外研究现状第12-13页
   ·铜互连热应力分析基本理论第13-16页
     ·铜互连中热应力的产生机制第13-14页
     ·铜互连中热应力的简介第14-16页
   ·热应力分析方法第16-17页
     ·有限元分析方法第16页
     ·ANSYS 软件第16-17页
   ·论文的主要工作及内容安排第17-18页
第2章 基于不同阻挡层材料的热应力有限元分析第18-32页
   ·扩散阻挡层的研究现状第18-20页
   ·阻挡层材料对铜导线热应力影响第20-25页
     ·单大马士革结构第20-22页
     ·双大马士革结构第22-25页
   ·阻挡层厚度对铜导线和阻挡层热应力的影响第25-30页
     ·阻挡层材料和厚度不同时铜导线中应力第25-26页
     ·电介质材料不同阻挡层厚度变化铜导线中应力第26-28页
     ·电介质材料不同阻挡层厚度变化侧壁阻挡层中应力变化第28-29页
     ·电介质材料不同阻挡层厚度变化底部阻挡层中应力变化第29-30页
   ·本章小结第30-32页
第3章 基于不同电介质材料的热应力有限元分析第32-47页
   ·电介质材料的简介第32-33页
   ·电介质材料对铜互连的影响第33-41页
     ·改变电介质材料第33-38页
     ·电介质材料参数性能第38-41页
   ·加入应力控制层的结构第41-42页
   ·不同电介质材料时互连失效模式第42-45页
   ·本章小结第45-47页
第4章 基于不同互连结构的热应力有限元分析第47-55页
   ·改变通孔结构第47-50页
   ·改变铜导线结构第50-53页
     ·金属 M1 中有电介质凹槽的结构第50-52页
     ·有电介质凹槽的LOW-K铜互连系统第52-53页
   ·本章小结第53-55页
结论第55-57页
参考文献第57-63页
攻读硕士学位期间发表的论文第63-64页
致谢第64页

论文共64页,点击 下载论文
上一篇:井下白光LED无线通信系统研究
下一篇:基于联邦滤波位置参考系统信息融合研究