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三维封装芯片Cu-In体系固液互扩散低温键合机理研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-20页
    1.1 课题背景及研究目的第9-10页
    1.2 国内外的研究现状第10-19页
        1.2.1 SLID 键合第10页
        1.2.2 SLID 键合焊点的制备工艺第10-13页
        1.2.3 SLID 键合体系第13-17页
        1.2.4 SLID 键合焊点剪切性能及断口分析第17-19页
    1.3 本文主要研究内容第19-20页
第2章 实验材料及方法第20-25页
    2.1 实验过程概述第20页
    2.2 实验材料第20页
    2.3 实验设备及方法第20-24页
        2.3.1 磁控溅射设备第20-21页
        2.3.2 电镀设备第21页
        2.3.3 薄膜退火及焊点键合设备第21页
        2.3.4 薄膜表面形貌、粗糙度及结合力分析第21-22页
        2.3.5 SLID 键合焊点试样的制备第22页
        2.3.6 焊点组织成分分析第22-23页
        2.3.7 焊点剪切试验及断口分析第23-24页
    2.4 本章小结第24-25页
第3章 Cu-In 体系 SLID 键合焊点的制备工艺第25-34页
    3.1 焊点结构设计第25-26页
    3.2 薄膜的制备第26-32页
        3.2.1 溅射层薄膜的制备第26-27页
        3.2.2 电镀层薄膜的制备第27-32页
    3.3 薄膜退火工艺第32-33页
    3.4 本章小结第33-34页
第4章 Cu-In 体系 SLID 键合焊点组织演变第34-49页
    4.1 不同键合温度焊点组织成分分析第34-37页
    4.2 不同键合时间焊点组织演变第37-42页
        4.2.1 260℃不同键合时间焊点组织演变第37-39页
        4.2.2 360℃不同键合时间焊点组织演变第39-42页
    4.3 界面分布小孔洞及焊缝纵向贯穿裂纹的形成分析第42-45页
    4.4 XRD 验证分析焊缝物相组成第45-47页
    4.5 本章小结第47-49页
第5章 Cu-In 体系 SLID 键合焊点剪切试验及断口分析第49-70页
    5.1 不同键合工艺参数下焊点的剪切性能第49-55页
        5.1.1 260℃不同键合时间下焊点剪切强度第50-52页
        5.1.2 360℃不同键合时间下焊点剪切强度第52-55页
    5.2 260℃键合长时间焊点出现未焊上区域的机理分析第55-60页
    5.3 剪切断口分析第60-69页
        5.3.1 260℃键合焊点剪切断口分析第61-63页
        5.3.2 断口中舌状花样形成机理分析第63-66页
        5.3.3 360℃键合焊点剪切断口分析第66-69页
    5.4 本章小结第69-70页
结论第70-72页
参考文献第72-76页
攻读硕士学位期间发表的论文第76-78页
致谢第78页

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