| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-20页 |
| 1.2.1 轮式磁场发生装置现状分析 | 第14-16页 |
| 1.2.2 盘式磁场发生装置现状分析 | 第16-19页 |
| 1.2.3 存在的问题 | 第19-20页 |
| 1.3 研究目标和内容 | 第20-22页 |
| 1.3.1 研究目标 | 第20页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5 课题来源 | 第22页 |
| 1.6 章节安排 | 第22-24页 |
| 2 单一介质中磁场发生装置空间磁场理论建模 | 第24-36页 |
| 2.1 永磁体空间磁场分析的相关理论 | 第24-26页 |
| 2.1.1 永磁体空间磁场求解的等效电流模型 | 第24-25页 |
| 2.1.2 磁感应强度B的求解方法 | 第25-26页 |
| 2.2 空气中磁场发生装置空间磁场分析 | 第26-30页 |
| 2.2.1 空气中单个永磁体的空间磁场求解 | 第26-28页 |
| 2.2.2 空气中多个永磁体的空间磁场求解 | 第28-30页 |
| 2.3 磁流变抛光液中磁场分析 | 第30-33页 |
| 2.3.1 有无磁流变抛光液时空间磁场对比分析 | 第30-32页 |
| 2.3.2 磁流变抛光液中磁场分析模型的简化 | 第32-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-36页 |
| 3 镜像法分析磁流变抛光液中磁场分布 | 第36-54页 |
| 3.1 镜像法处理静态磁场边值问题的基本思路 | 第36-37页 |
| 3.2 双介质双界面空间磁场分析 | 第37-44页 |
| 3.2.1 镜像前双介质双界面空间场域分析 | 第37-39页 |
| 3.2.2 镜像后B区域空间磁场分析 | 第39-42页 |
| 3.2.3 镜像后A区域空间磁场分析 | 第42-43页 |
| 3.2.4 镜像后C区域空间磁场分析 | 第43-44页 |
| 3.3 磁流变抛光液中磁场分布的解析模型 | 第44-48页 |
| 3.3.1 各场域中镜像电流大小的确定 | 第44-46页 |
| 3.3.2 磁流变抛光液中磁场分布求解 | 第46-48页 |
| 3.4 解析模型的验证 | 第48-52页 |
| 3.4.1 特例验证 | 第48-50页 |
| 3.4.2 理论与仿真的对比验证 | 第50-52页 |
| 3.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 4 相关设计参数对磁场的影响 | 第54-68页 |
| 4.1 磁场发生装置中磁场影响因素分析 | 第54-56页 |
| 4.2 各参数对磁流变抛光区磁场的影响 | 第56-65页 |
| 4.2.1 永磁体磁化强度对磁场的影响 | 第57-59页 |
| 4.2.2 永磁体半径对磁场的影响 | 第59-62页 |
| 4.2.3 永磁体高度对磁场的影响 | 第62-63页 |
| 4.2.4 永磁体磁极气隙间距对磁场的影响 | 第63-65页 |
| 4.3 本章小结 | 第65-68页 |
| 5 磁场发生装置优化设计 | 第68-80页 |
| 5.1 磁场发生装置参数优化问题的数学模型建立 | 第68-71页 |
| 5.1.1 约束优化问题的数学模型描述 | 第68-69页 |
| 5.1.2 优化变量 | 第69页 |
| 5.1.3 约束条件 | 第69-70页 |
| 5.1.4 目标函数 | 第70-71页 |
| 5.1.5 磁场发生装置参数优化问题的数学模型 | 第71页 |
| 5.2 基于人工蜂群算法的参数优化模型求解 | 第71-76页 |
| 5.2.1 基于人工蜂群算法的参数优化模型求解分析 | 第71-74页 |
| 5.2.2 磁场发生装置参数优化模型求解 | 第74-76页 |
| 5.3 半导体晶片磁流变抛光的磁场发生装置实现 | 第76-78页 |
| 5.4 本章小结 | 第78-80页 |
| 6 总结与展望 | 第80-84页 |
| 6.1 全文总结 | 第80-81页 |
| 6.2 工作展望 | 第81-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第88-92页 |
| 学位论文数据集 | 第92页 |