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集成电路HPM损伤的计算机模拟

摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第1章 绪论第11-19页
   ·概述第11-12页
   ·国内外HPM研究现状第12-15页
   ·课题的研究背景和意义第15-16页
   ·论文的研究目的及我所做的工作第16-19页
第2章 HPM对半导体器件作用效应及主要失效机理第19-31页
   ·HPM效应第19-20页
   ·半导体器件烧毁的物理机理第20-22页
   ·HPM能量的耦合途径第22-23页
   ·电子、电气系统对HPM的防护原则第23-26页
   ·HPM对半导体器件的损伤实验第26-30页
     ·对CMOS、TTL芯片损伤实验第27页
     ·脉冲宽度与损伤阈值的实验第27-28页
     ·水平极化和垂直极化的测试第28-29页
     ·缝孔效应测试第29-30页
   ·本章小结第30-31页
第3章 电磁场问题的求解依据和有限元法第31-45页
   ·电磁场问题求解依据第31-35页
     ·麦克斯韦方程组第31-32页
     ·波动方程第32-33页
     ·边界条件第33-34页
     ·辐射条件第34-35页
   ·有限元法第35-44页
     ·有限元法简介第35-36页
     ·有限元法的基本步骤第36-42页
     ·有限元公式的另一种表示第42-44页
   ·本章小结第44-45页
第4章 CMOS集成电路模型的设计第45-61页
   ·互连线的模型第47-51页
     ·分布电阻第48-49页
     ·分布电容第49-50页
     ·分布电感第50-51页
   ·MOS器件模型第51-56页
   ·按比例缩小第56-58页
     ·晶体管按比例缩小第56-57页
     ·互连线按比例缩小第57-58页
   ·CMOS集成电路模型第58-60页
   ·本章小结第60-61页
第5章 HPM对CMOS集成电路损伤的模拟计算第61-89页
   ·电磁脉冲产生感应电动势的计算第61-62页
   ·金属引线的烧毁第62-70页
     ·理论分析第62-64页
     ·互连线烧毁的仿真模型第64-67页
     ·仿真结果第67-70页
   ·MOS器件击穿第70-78页
     ·介质击穿模型第70-73页
     ·栅氧层击穿的仿真模型第73-76页
     ·仿真结果第76-78页
   ·集成电路HPM损伤的结果分析和讨论第78-87页
     ·工艺尺寸与损伤阈值的关系第79-80页
     ·脉冲宽度和损伤阈值的关系第80-82页
     ·垂直极化和水平极化第82-83页
     ·CMOS集成电路的HPM保护电路的设计第83-87页
   ·本章小结第87-89页
结论第89-91页
参考文献第91-95页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第95-96页
致谢第96-98页
详细摘要第98-103页

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