首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--微电子学、集成电路(IC)论文--一般性问题论文--制造工艺论文

光刻投影物镜像质分析及补偿研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
目录第10-12页
第1章 绪论第12-38页
    1.1 课题研究背景第12-14页
    1.2 光刻投影物镜的发展第14-28页
    1.3 相关领域的研究现状第28-35页
    1.4 课题研究目的及意义第35页
    1.5 论文的主要研究内容和论文结构安排第35-38页
第2章 光刻投影物镜第38-90页
    2.1 光刻投影物镜的成像原理第38-46页
    2.2 光刻投影物镜的像质评价第46-50页
    2.3 小结第50-51页
    2.4 波像差表示第51-56页
    2.5 波像差对像面位置的影响第56-61页
    2.6 制造像差分析与补偿第61-62页
    2.7 工况像差分析与补偿第62-87页
    2.8 小结第87-90页
第3章 光刻投影物镜的畸变分析与补偿第90-112页
    3.1 畸变表示第90-93页
    3.2 远心度对畸变的影响第93-99页
    3.3 掩模面对畸变的影响第99-108页
    3.4 彗差对畸变的影响第108-110页
    3.5 小结第110-112页
第4章 光刻投影物镜的杂散光分析与控制第112-127页
    4.1 杂散光第112-114页
    4.2 短中程杂散光第114-121页
    4.3 远程杂散光第121-122页
    4.4 数值孔径一致性第122-125页
    4.5 小结第125-127页
第5章 结论第127-130页
    5.1 主要研究成果第127-128页
    5.2 创新点第128页
    5.3 工作展望第128-130页
参考文献第130-138页
在学期间学术成果情况第138-140页
指导教师及作者简介第140-141页
致谢第141页

论文共141页,点击 下载论文
上一篇:基于感知和统计模型的立体图像质量评价研究
下一篇:县域义务教育均衡发展评价指标体系构建的研究