光刻投影物镜像质分析及补偿研究
摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
目录 | 第10-12页 |
第1章 绪论 | 第12-38页 |
1.1 课题研究背景 | 第12-14页 |
1.2 光刻投影物镜的发展 | 第14-28页 |
1.3 相关领域的研究现状 | 第28-35页 |
1.4 课题研究目的及意义 | 第35页 |
1.5 论文的主要研究内容和论文结构安排 | 第35-38页 |
第2章 光刻投影物镜 | 第38-90页 |
2.1 光刻投影物镜的成像原理 | 第38-46页 |
2.2 光刻投影物镜的像质评价 | 第46-50页 |
2.3 小结 | 第50-51页 |
2.4 波像差表示 | 第51-56页 |
2.5 波像差对像面位置的影响 | 第56-61页 |
2.6 制造像差分析与补偿 | 第61-62页 |
2.7 工况像差分析与补偿 | 第62-87页 |
2.8 小结 | 第87-90页 |
第3章 光刻投影物镜的畸变分析与补偿 | 第90-112页 |
3.1 畸变表示 | 第90-93页 |
3.2 远心度对畸变的影响 | 第93-99页 |
3.3 掩模面对畸变的影响 | 第99-108页 |
3.4 彗差对畸变的影响 | 第108-110页 |
3.5 小结 | 第110-112页 |
第4章 光刻投影物镜的杂散光分析与控制 | 第112-127页 |
4.1 杂散光 | 第112-114页 |
4.2 短中程杂散光 | 第114-121页 |
4.3 远程杂散光 | 第121-122页 |
4.4 数值孔径一致性 | 第122-125页 |
4.5 小结 | 第125-127页 |
第5章 结论 | 第127-130页 |
5.1 主要研究成果 | 第127-128页 |
5.2 创新点 | 第128页 |
5.3 工作展望 | 第128-130页 |
参考文献 | 第130-138页 |
在学期间学术成果情况 | 第138-140页 |
指导教师及作者简介 | 第140-141页 |
致谢 | 第141页 |