| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-19页 |
| 1.1 光互连的定义及起源 | 第13页 |
| 1.2 光互连的应用前景及发展趋势 | 第13-16页 |
| 1.3 片上光互连的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.4 本文的工作内容 | 第17-19页 |
| 第二章 光互连用硅光子器件的制造工艺及基本原理 | 第19-32页 |
| 2.1 硅光子器件制造技术 | 第19-23页 |
| 2.1.1 聚焦离子束铣削 | 第19-20页 |
| 2.1.2 电子束曝光 | 第20页 |
| 2.1.3 纳米压印技术 | 第20-21页 |
| 2.1.4 光学曝光 | 第21-22页 |
| 2.1.5 干法刻蚀 | 第22-23页 |
| 2.1.6 小结 | 第23页 |
| 2.2 光互连光子器件的基本原理及发展现状 | 第23-31页 |
| 2.2.1 光源 | 第23-24页 |
| 2.2.2 调制器 | 第24-25页 |
| 2.2.3 波导 | 第25-27页 |
| 2.2.4 光交换 | 第27-29页 |
| 2.2.5 光探测器 | 第29-30页 |
| 2.2.6 耦合器 | 第30-31页 |
| 2.3 小结 | 第31-32页 |
| 第三章 基本光器件性能分析及仿真EQUATION CHAPTER 3 SECTION 3 | 第32-45页 |
| 3.1 波导 | 第32-35页 |
| 3.1.1 条形波导 | 第32-34页 |
| 3.1.2 弯曲波导（bend waveguide） | 第34-35页 |
| 3.2 微环谐振器 | 第35-43页 |
| 3.2.1 微环谐振器的基本原理及主要性能参数 | 第35-37页 |
| 3.2.2 单环 | 第37-38页 |
| 3.2.3 多环 | 第38-41页 |
| 3.2.4 不同交叉波导及交换单元 | 第41-43页 |
| 3.3 微盘谐振器和回廊耳语模 | 第43-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 光互连器件表面粗糙效应的统计模型分析EQUATION CHAPTER (NEXT) SECTION 1 | 第45-51页 |
| 4.1 粗糙表面数学模型 | 第45-47页 |
| 4.2 随机微分方程及微元法 | 第47-48页 |
| 4.3 光器件粗糙表面起伏的鞅性及收敛方式 | 第48-51页 |
| 第五章 基于小波分解的微盘 / 微环表面粗糙效应分析EQUATION CHAPTER (NEXT) SECTION 5 | 第51-60页 |
| 5.1 背景介绍 | 第51-52页 |
| 5.2 小波分解 | 第52-53页 |
| 5.3 小波逼近表面粗糙起伏的合理性证明 | 第53-56页 |
| 5.4 小波逼近表面粗糙起伏的方法 | 第56-57页 |
| 5.5 微盘谐振器表面粗糙效应分析 | 第57-59页 |
| 5.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 本文小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-72页 |
| 附录 缩略词 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第74页 |
