基于微加工技术的EMM阵列阴极设计与工艺研究
摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
第一章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 微细加工技术及其发展 | 第12-16页 |
1.1.1 微细电火花加工技术 | 第12-13页 |
1.1.2 微细电解加工技术 | 第13-14页 |
1.1.3 激光微细加工技术 | 第14-15页 |
1.1.4 LIGA技术和准LIGA技术 | 第15-16页 |
1.2 微细电解加工技术 | 第16-19页 |
1.2.1 电解加工技术 | 第17页 |
1.2.2 微细电解加工技术的研究与发展 | 第17-19页 |
1.3 本课题研究的主要意义和内容 | 第19-22页 |
1.3.1 研究意义 | 第20页 |
1.3.2 研究内容 | 第20-22页 |
第二章 EMM工艺过程仿真研究 | 第22-37页 |
2.1 微细电解加工理论基础 | 第22-27页 |
2.1.1 电解加工成型原理 | 第22-24页 |
2.1.2 微细电解加工机理 | 第24-27页 |
2.2 EMM多物理场模型 | 第27-35页 |
2.2.1 EMM的电场、流场、热场的建模 | 第28-30页 |
2.2.2 模型的求解与分析 | 第30-33页 |
2.2.3 仿真结果分析 | 第33-35页 |
2.3 本章小结 | 第35-37页 |
第三章 EMM工艺试验平台设计与构建 | 第37-44页 |
3.1 EMM工艺系统设计 | 第37-40页 |
3.1.1 实验系统需求分析 | 第37-38页 |
3.1.2 电解液循环系统 | 第38-39页 |
3.1.3 EMM电源 | 第39页 |
3.1.4 实验系统工作原理 | 第39-40页 |
3.1.5 实验系统可调参数 | 第40页 |
3.2 EMM系统构建 | 第40-42页 |
3.3 本章小结 | 第42-44页 |
第四章 EMM微阵列阴极制备工艺流程 | 第44-56页 |
4.1 微加工基础工艺 | 第44-49页 |
4.1.1 光刻相关工艺 | 第44-47页 |
4.1.2 溅射 | 第47-48页 |
4.1.3 微电镀 | 第48-49页 |
4.2 中空结构阵列阴极制备工艺流程 | 第49-52页 |
4.2.1 垂直中空阵列阴极制备工艺流程 | 第49-50页 |
4.2.2 水平单排中空阵列阴极制备工艺流程 | 第50-52页 |
4.3 基于电泳的阴极侧壁绝缘 | 第52-55页 |
4.3.1 电泳及其工艺参数 | 第52-54页 |
4.3.2 电泳漆-金属镍的结合强度 | 第54-55页 |
4.4 本章小结 | 第55-56页 |
第五章 EMM中空阵列阴极微孔加工实验 | 第56-65页 |
5.1 EMM微孔加工实验准备 | 第56-60页 |
5.1.1 电解液选用以及循环控制 | 第56-58页 |
5.1.2 电极装夹 | 第58-59页 |
5.1.3 加工对刀 | 第59-60页 |
5.2 EMM实验以及分析 | 第60-63页 |
5.2.1 中空电极可行性初步验证实验 | 第60-62页 |
5.2.2 中空电极对电流稳定性的影响 | 第62-63页 |
5.3 本章小结 | 第63-65页 |
第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
6.1 主要结论 | 第65页 |
6.2 主要创新点 | 第65-66页 |
6.3 展望与下一步研究设想 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
攻读学位期间发表的学术论文和专利 | 第72页 |