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新型硅通孔寄生参数与等效电路研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-14页
符号对照表第14-17页
缩略语对照表第17-21页
第一章 绪论第21-29页
   ·三维集成技术研究背景和意义第21-24页
   ·基于TSV技术三维集成的优势第24-25页
   ·基于TSV技术三维集成的挑战第25-26页
   ·本论文的研究工作和结构安排第26-29页
第二章 基于TSV的三维集成的关键工艺技术第29-41页
   ·基于SiO_2介质层的TSV工艺技术第29-37页
     ·TSV制造的工艺顺序第29-33页
     ·TSV制造的键合方式第33-34页
     ·TSV制造的键合方向第34-35页
     ·基于后通孔技术的SiO_2介质层TSV的制作工艺第35-37页
   ·基于BCB介质层的TSV工艺技术第37-38页
   ·基于Air-Gap介质层的TSV工艺技术第38-40页
   ·结论第40-41页
第三章 空气隙TSV寄生参数与等效电路研究第41-67页
   ·圆柱形TSV寄生参数提取第41-53页
     ·圆柱形TSV寄生电阻第41-43页
     ·圆柱形TSV寄生电感第43-46页
     ·圆柱形TSV寄生电容第46-51页
     ·圆柱形TSV硅衬底的寄生电导与电容第51-52页
     ·圆柱形TSV的其它寄生效应第52-53页
   ·锥形TSV寄生电感的提取第53-58页
   ·TSV等效电路研究第58-65页
     ·GSG模式TSV等效电路第58-64页
     ·GSG与GS模式TSV结构对比第64-65页
   ·结论第65-67页
第四章 空气腔TSV寄生参数与等效电路研究第67-79页
   ·空气腔互连工艺第67-70页
   ·空气腔TSV性能研究第70-76页
     ·空气腔TSV的品质因数第70-74页
     ·空气腔TSV的S参数第74-76页
   ·空气腔TSV等效电路研究第76-78页
   ·结论第78-79页
第五章 热效应对TSV寄生参数的影响第79-91页
   ·热效应对TSV导体金属的影响第79-85页
     ·温度对TSV铜导体寄生电阻的影响第79-80页
     ·电阻温度系数TCR第80-81页
     ·工作频率对TCR的影响第81-83页
     ·TSV导体半径对TCR的影响第83-85页
   ·热效应对TSV介质层的影响第85-88页
   ·热效应对TSV硅衬底的影响第88-89页
   ·热效应对TSV的S参数的影响第89页
   ·结论第89-91页
第六章 高速三维集成互连通道电磁特性的研究第91-111页
   ·集总元件匹配第91-102页
     ·基于TSV技术的三维高速信号通道第92-93页
     ·基于TSV的T-型等效电路模型第93-101页
     ·基于TSV的π-型等效电路模型第101-102页
   ·切比雪夫多节互连线匹配第102-110页
     ·小信号反射理论第102-104页
     ·切比雪夫多节互连线匹配原理第104-105页
     ·三维传输模型中的切比雪夫多节互连线第105-108页
     ·切比雪夫多节互连线对三维传输延迟的影响第108-109页
     ·切比雪夫多节互连线对三维通道功耗的影响第109-110页
   ·结论第110-111页
第七章 总结与展望第111-115页
   ·研究总结第111-112页
   ·研究展望第112-115页
参考文献第115-123页
致谢第123-125页
作者简介第125-126页

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