| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 引言 | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-21页 |
| ·失效分析技术概述 | 第6-11页 |
| ·EFA电性失效定位技术简介 | 第11-16页 |
| ·EFA定位后PFA物理验证及基本PFA设备简介 | 第16-21页 |
| 第二章 EFA定位技术理论基础研究 | 第21-39页 |
| ·光电效应下的PEM显微发光技术原理与其EFA应用举例 | 第21-28页 |
| ·OBIRCH光致电阻率变化区技术原理与其EFA应用举例 | 第28-32页 |
| ·PVC被动式电压衬度技术原理与其EFA应用举例 | 第32-39页 |
| 第三章 PFA物理验证技术研究 | 第39-65页 |
| ·EMMI捕捉到Emission Photon Spot的PFA物理验证 | 第39-47页 |
| ·OBIRCH捕捉到电阻率变化区的PFA物理验证 | 第47-54页 |
| ·PVC捕捉到异常点的PFA物理验证 | 第54-57页 |
| ·POWER MOS功率器件EFA及其PFA物理验证方法 | 第57-62页 |
| ·EFA定位后的PFA分析建议 | 第62-65页 |
| 第四章 从微电子时代进入纳电子时代对EFA提出的新要求 | 第65-73页 |
| ·EMMI与OBIRCH技术的灵活转换及应用举例 | 第65-68页 |
| ·背面EMMI技术的发展及应用举例 | 第68-70页 |
| ·MCT技术和InGaAs技术的发展简介 | 第70-73页 |
| 第五章 失效分析技术总结与技术展望 | 第73-77页 |
| ·Wafer Level失效分析技术总结 | 第73-76页 |
| ·新形势下的EFA定位技术的挑战 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
