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焊球正六边形排布情况下倒装芯片底填充毛细压研究

摘要第5-6页
Abstract第6页
第1章 绪论第9-20页
    1.1 引言第9页
    1.2 封装技术第9-15页
        1.2.1 封装工艺简介与倒装芯片封装技术第9-11页
        1.2.2 底填充工艺简介第11-15页
    1.3 国内外研究现状第15-19页
        1.3.1 底填充过程的毛细压第15-16页
        1.3.2 底填充过程的渗透率第16-17页
        1.3.3 实验研究第17-18页
        1.3.4 存在的问题第18-19页
    1.4 本文的研究内容第19-20页
第2章 底填充平均毛细压的解析模型第20-47页
    2.1 引言第20页
    2.2 临界间距的计算第20-22页
    2.3 大间距排布时平均毛细压的计算第22-31页
        2.3.1 底填充流动过程的分阶段分析第22-24页
        2.3.2 填充量模型的建立第24-26页
        2.3.3 接触线跳跃量的计算第26-27页
        2.3.4 平均毛细压模型的建立第27-31页
    2.4 小间距排布时平均毛细压的计算第31-37页
        2.4.1 底填充流动过程的分阶段分析第31-33页
        2.4.2 填充量模型的建立第33-35页
        2.4.3 接触线跳跃量的计算第35-36页
        2.4.4 平均毛细压模型的建立第36-37页
    2.5 焊球正六边形排布平均毛细压的方向性第37-42页
    2.6 平均毛细压的对比第42-45页
        2.6.1 不同间距情况下平均毛细压的对比第42-44页
        2.6.2 不同流动方向下平均毛细压的对比第44-45页
    2.7 本章小结第45-47页
第3章 底填充流动的实验研究第47-67页
    3.1 引言第47页
    3.2 芯片试样的制作第47-50页
        3.2.1 SOG与光刻技术第47-48页
        3.2.2 试样的改进与制作第48-50页
    3.3 底填充实验平台的搭建第50-60页
        3.3.1 总体实验方案的设计第50-51页
        3.3.2 实验设备介绍第51-53页
        3.3.3 底填充材料属性的测定第53-59页
        3.3.4 底填充方案的设计第59-60页
    3.4 底填充实验第60-65页
        3.4.1 实验试样信息第60-61页
        3.4.2 实验步骤第61-62页
        3.4.3 实验结果第62-65页
    3.5 本章小结第65-67页
第4章 平均毛细压解析模型的验证第67-75页
    4.1 引言第67页
    4.2 底填充过程的数学模型第67-68页
    4.3 底填充过程的渗透率第68-71页
    4.4 解析模型的验证第71-74页
    4.5 本章小结第74-75页
第5章 总结与展望第75-77页
    5.1 总结第75-76页
    5.2 展望第76-77页
参考文献第77-81页
致谢第81-82页
附录 攻读硕士期间的主要成果第82页

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