| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 引言 | 第8-15页 |
| 第一章 光刻基本原理及概述 | 第15-25页 |
| 第一节 光刻在集成电路中的应用 | 第15-16页 |
| 第二节 光刻基本原理 | 第16-18页 |
| 第三节 光掩膜介绍 | 第18-22页 |
| 第四节 光刻工艺介绍 | 第22-25页 |
| 第二章 光刻胶 | 第25-28页 |
| 第三章 光刻设备及量测,缺陷检验设备 | 第28-35页 |
| 第一节 光刻设备 | 第28-31页 |
| 第二节 量测设备 | 第31-32页 |
| 第三节 缺陷检验设备 | 第32-35页 |
| 第四章 Thermal-wave及SIMS介绍 | 第35-39页 |
| 第一节 Thermal-wave介绍 | 第35-36页 |
| 第二节 SIMS介绍 | 第36-39页 |
| 第五章 Peeling缺陷产生的现象和机理 | 第39-45页 |
| 第一节 Peeling缺陷产生的现象 | 第39-40页 |
| 第二节 Peeling缺陷产生的机理 | 第40-45页 |
| 第六章 Peeling缺陷的解决方案 | 第45-54页 |
| 第一节 新光阻空片上Thermal-wave | 第46-47页 |
| 第二节 新光阻swing curve | 第47-48页 |
| 第三节 新光阻空片上SIMS | 第48-50页 |
| 第四节 新光阻PRS和CDU | 第50-52页 |
| 第五节 新光阻ADI缺陷收集 | 第52-54页 |
| 第七章 Satellite缺陷产生的机理及解决方案 | 第54-57页 |
| 第一节 Satellite缺陷产生的机理 | 第54-55页 |
| 第二节 Satellite缺陷的解决方案 | 第55-57页 |
| 第八章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 第一节 结论 | 第57-58页 |
| 第二节 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |