| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 BN 的结构、性质及应用 | 第8-14页 |
| 1.2.1 六方氮化硼(h-BN)的结构、性质及应用 | 第10-11页 |
| 1.2.2 立方氮化硼(c-BN)的结构、性质及应用 | 第11-13页 |
| 1.2.3 氮化硼各种相之间的转变 | 第13-14页 |
| 1.3 BN 薄膜的制备方法简介 | 第14-15页 |
| 1.4 BN 薄膜的生长模式简介 | 第15-16页 |
| 1.5 BN 薄膜的不稳定性 | 第16-18页 |
| 1.6 本课题的研究意义及内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验方法和表征原理 | 第19-25页 |
| 2.1 BN 薄膜制备过程 | 第19-20页 |
| 2.2 BN 薄膜的表征方法 | 第20-25页 |
| 2.2.1 原子力显微镜(AFM) | 第20-22页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第22页 |
| 2.2.3 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第22-23页 |
| 2.2.4 拉曼光谱仪(Raman) | 第23-24页 |
| 2.2.5 X 射线光电子能谱仪(XPS) | 第24-25页 |
| 第3章 磁控溅射工艺对 h-BN 薄膜的影响 | 第25-45页 |
| 3.1 氮气对氮化硼薄膜沉积的影响 | 第25-28页 |
| 3.1.1 氮气流量对 BN 薄膜表面形貌的影响 | 第25-27页 |
| 3.1.2 氮气流量对 BN 薄膜结晶度的影响 | 第27-28页 |
| 3.2 负偏压对氮化硼薄膜沉积的影响 | 第28-36页 |
| 3.2.1 负偏压对 BN 薄膜表面形貌的影响 | 第29-34页 |
| 3.2.2 负偏压对 BN 薄膜取向及相变的影响 | 第34-36页 |
| 3.3 氢气流量对氮化硼薄膜沉积的影响 | 第36-43页 |
| 3.3.1 氢气流量对 BN 薄膜表面形貌的影响 | 第36-41页 |
| 3.3.3 氢气流量对 BN 薄膜相变的影响 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 退火温度对 h-BN 薄膜的影响 | 第45-52页 |
| 4.1 实验方法 | 第45-48页 |
| 4.1.1 保护气氛的选择 | 第45-47页 |
| 4.1.2 实验步骤 | 第47-48页 |
| 4.2 退火温度对 h-BN 薄膜相变的影响 | 第48-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 结论与展望 | 第52-54页 |
| 5.1 结论 | 第52-53页 |
| 5.2 展望 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60-61页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第61页 |