抛光垫的微观接触行为研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-24页 |
1.1 论文选题背景 | 第9-14页 |
1.1.1 集成电路的应用与发展 | 第9页 |
1.1.2 集成电路的制造 | 第9-11页 |
1.1.3 CMP工作原理及特点 | 第11-12页 |
1.1.4 CMP材料去除机理及模型 | 第12-14页 |
1.2 抛光垫介绍 | 第14-20页 |
1.2.1 抛光垫的功能特性 | 第14页 |
1.2.2 抛光垫的材料结构 | 第14-16页 |
1.2.3 抛光垫的物理特性 | 第16页 |
1.2.4 抛光垫的表面结构 | 第16-17页 |
1.2.5 抛光垫的表面粗糙度及其评价参数 | 第17-20页 |
1.3 抛光垫的微观接触行为及其影响研究现状 | 第20-23页 |
1.4 课题来源、研究目标与主要内容 | 第23-24页 |
2 抛光垫的接触刚度分析 | 第24-44页 |
2.1 粗糙薄层弹性体的接触刚度分析 | 第24-31页 |
2.1.1 分析模型与分析方法 | 第25-27页 |
2.1.2 结果分析与讨论 | 第27-31页 |
2.1.3 研究结论 | 第31页 |
2.2 不同结构抛光垫的刚度分析 | 第31-40页 |
2.2.1 单级沟槽对抛光垫接触刚度的影响 | 第32-36页 |
2.2.2 多级沟槽结构对抛光垫接触刚度的影响 | 第36-39页 |
2.2.3 孔结构对抛光垫接触刚度的影响 | 第39-40页 |
2.3 抛光垫弹性模量的测定 | 第40-43页 |
2.4 本章小结 | 第43-44页 |
3 微观尺度真实接触面积(RCA)观测系统的搭建 | 第44-55页 |
3.1 RCA观测系统的整体设计 | 第44-50页 |
3.1.1 观测系统的设计要求 | 第44页 |
3.1.2 观测系统的设计方案 | 第44-46页 |
3.1.3 RCA观测平台的设计 | 第46-49页 |
3.1.4 显微镜等观测设备 | 第49-50页 |
3.2 RCA观测系统的性能分析与测试 | 第50-54页 |
3.2.1 观测平台中抛光垫接触载荷的均匀性分析 | 第50-53页 |
3.2.2 气动系统脉动加载过程的力学响应测试 | 第53-54页 |
3.3 本章小结 | 第54-55页 |
4 真实接触面积观测实验研究 | 第55-69页 |
4.1 真实接触面积观测实验 | 第55-60页 |
4.1.1 抛光垫的前期修整 | 第55-58页 |
4.1.2 显微镜获取微观接触图片 | 第58-59页 |
4.1.3 图片处理及数据提取 | 第59-60页 |
4.2 接触载荷对真实接触面积的影响 | 第60-62页 |
4.3 化学环境对真实接触面积的影响 | 第62-65页 |
4.3.1 观察区域的标定 | 第62-63页 |
4.3.2 干湿条件下抛光垫的接触特性 | 第63-65页 |
4.4 加载次数对真实接触面积的影响 | 第65-68页 |
4.4.1 加载次数对干抛光垫真实接触面积的影响 | 第65-66页 |
4.4.2 加载次数对湿抛光垫真实接触面积的影响 | 第66-68页 |
4.5 本章小结 | 第68-69页 |
5 结论与展望 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第74-75页 |
致谢 | 第75-76页 |