光刻友好型冗余金属填充方法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 课题的提出 | 第8-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 基于密度规则的填充 | 第11页 |
| 1.2.2 基于时序优化的填充 | 第11-12页 |
| 1.2.3 基于电源优化的填充 | 第12页 |
| 1.2.4 考虑光刻影响的填充 | 第12-13页 |
| 1.3 本文的主要工作 | 第13-14页 |
| 2 冗余金属预填充实现光刻畸变修复的提出 | 第14-24页 |
| 2.1 CMP工艺与冗余金属填充 | 第14-17页 |
| 2.1.1 CMP工艺原理 | 第14-15页 |
| 2.1.2 铜互连层的CMP缺陷 | 第15-16页 |
| 2.1.3 冗余金属填充方法 | 第16-17页 |
| 2.2 光刻工艺与冗余金属填充 | 第17-24页 |
| 2.2.1 光刻工艺原理、缺陷 | 第17-19页 |
| 2.2.2 冗余金属的光学影响 | 第19-22页 |
| 2.2.3 冗余金属预填充的提出 | 第22-24页 |
| 3 图形相对位置对光刻畸变影响研究 | 第24-30页 |
| 3.1 光刻仿真环境的建立 | 第24-26页 |
| 3.2 版图图形相对位置模型 | 第26页 |
| 3.3 图形相对位置对光刻畸变影响结果分析 | 第26-30页 |
| 4 冗余金属预填充方案设计 | 第30-36页 |
| 4.1 T字型版图预填充修复方案 | 第30-32页 |
| 4.2 Z字型版图预填充修复方案 | 第32-33页 |
| 4.3 线端预填充保护方案 | 第33-34页 |
| 4.4 预填充流程设计 | 第34-36页 |
| 5 光刻友好型冗余金属填充流程 | 第36-40页 |
| 5.1 LFD填充流程设计 | 第36-39页 |
| 5.2 LFD填充流程的特点 | 第39-40页 |
| 6 LFD填充流程应用实例及结果分析 | 第40-46页 |
| 6.1 OR1200版图介绍 | 第40页 |
| 6.2 LFD流程光刻畸变优化结果分析 | 第40-43页 |
| 6.3 LFD流程CMP后平坦度结果分析 | 第43-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
