| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| ·近场直写光刻的发展历史背景及概况 | 第9-10页 |
| ·近场直写光刻的研究进展 | 第10-13页 |
| ·散射探针结构直写光刻 | 第10-11页 |
| ·圆环阵列式结构直写光刻 | 第11-12页 |
| ·Bowtie 天线结构直写光刻 | 第12-13页 |
| ·本文的主要研究内容及章节安排 | 第13-15页 |
| 第2章 表面等离子体近场直写光刻的理论基础 | 第15-33页 |
| ·表面等离子体存在的基本条件 | 第15-18页 |
| ·表面等离子体激发方式 | 第18-23页 |
| ·棱镜耦合激发 | 第19-20页 |
| ·光栅耦合激发 | 第20-21页 |
| ·聚焦光束激发 | 第21-22页 |
| ·近场激发 | 第22-23页 |
| ·局域表面等离子体（LSP） | 第23-28页 |
| ·局域表面等离子的电磁场共振条件 | 第23-26页 |
| ·局域表面等离子体增强特性 | 第26-28页 |
| ·表面等离子体的数值计算方法 | 第28-31页 |
| ·时域有限差分法（FDTD） | 第29-30页 |
| ·有限元法（FEM） | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 提高近场直写光刻光斑质量的方法研究 | 第33-45页 |
| ·探针结构分析 | 第33-39页 |
| ·Bowtie 天线探针 | 第34-36页 |
| ·SNOM 光纤探针 | 第36-37页 |
| ·实心金属探针 | 第37-39页 |
| ·耦合结构分析 | 第39-43页 |
| ·照明方式分析 | 第43-44页 |
| ·全内反射照明 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 探针（T）-介质（I）-金属（M）耦合结构 | 第45-53页 |
| ·TIM 结构耦合 | 第45-48页 |
| ·参数优化 | 第48-51页 |
| ·金属层厚度对光斑的影响 | 第48-49页 |
| ·光刻胶层厚度对光斑的影响 | 第49页 |
| ·针尖曲率半径对光斑的影响 | 第49-50页 |
| ·照明方式对光斑质量的影响 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 结束语 | 第53-55页 |
| ·本文的主要工作 | 第53-54页 |
| ·有待进一步解决的问题 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第58页 |