步进扫描光刻机工件台同步误差校正方法及控制
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| ·研究背景与意义 | 第11-12页 |
| ·光刻技术的发展现状及趋势 | 第12-15页 |
| ·光刻技术国际发展现状及趋势 | 第13-14页 |
| ·光刻技术国内发展现状及趋势 | 第14-15页 |
| ·步进扫描光刻机工件台同步运动控制概述 | 第15-20页 |
| ·步进扫描光刻机工件台同步运动 | 第15-18页 |
| ·步进扫描光刻机工件台同步运动控制 | 第18-20页 |
| ·国外光刻机工件台同步运动控制研究 | 第18-20页 |
| ·国内光刻机工件台同步运动控制研究 | 第20页 |
| ·课题来源及论文主要研究内容 | 第20-22页 |
| ·课题来源 | 第20-21页 |
| ·论文主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 同步控制对象模型建立及粗精叠层控制 | 第22-33页 |
| ·粗精叠层控制概述 | 第22-23页 |
| ·粗精叠层定位平台动力学建模及直线电机控制建模 | 第23-27页 |
| ·工件台动力学模型 | 第23-25页 |
| ·直线电机工作原理及宏定位平台控制建模 | 第25-27页 |
| ·平面电机控制建模及其坐标转换 | 第27-32页 |
| ·平面电机控制建模 | 第27-29页 |
| ·微定位平台驱动电机的坐标转换 | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 硅片台掩模台同步运动控制策略及仿真分析 | 第33-52页 |
| ·硅片台和掩模台同步运动控制问题描述 | 第33-36页 |
| ·硅片台掩模台同步控制结构 | 第36-40页 |
| ·并联式同步控制结构 | 第36-37页 |
| ·主从式同步控制结构 | 第37-38页 |
| ·协调式同步控制结构 | 第38-39页 |
| ·硅片台掩模台同步控制结构 | 第39-40页 |
| ·硅片台掩模同步控制器设计 | 第40-46页 |
| ·PID 控制基本原理 | 第40-42页 |
| ·模糊控制基本原理 | 第42-43页 |
| ·模糊 PID 控制器设计 | 第43-46页 |
| ·仿真分析 | 第46-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 控制系统实验平台的 FPGA 设计 | 第52-69页 |
| ·控制系统的总体设计方案 | 第52-54页 |
| ·FPGA 概述 | 第54-57页 |
| ·FPGA 工作原理与简介 | 第54-55页 |
| ·FPGA 的开发流程 | 第55-57页 |
| ·Verilog HDL 语言 | 第57页 |
| ·控制系统主要功能模块介绍 | 第57-68页 |
| ·位置检测模块 | 第58-60页 |
| ·电机及驱动器选型 | 第60-61页 |
| ·数据存储模块 | 第61-63页 |
| ·步进扫描运动模块 | 第63-66页 |
| ·PCB 电路板设计 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第5章 系统实验及结果分析 | 第69-74页 |
| ·系统实验环境 | 第69-70页 |
| ·课题实验及结果分析 | 第70-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第6章 总结与展望 | 第74-76页 |
| ·总结 | 第74页 |
| ·展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-78页 |
| 个人简历及攻读硕士学位期间发表的论文及专利 | 第78页 |
