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胶液凹槽动态铺展和芯片浸蘸过程检测与分析

摘要第4-5页
Abstract第5页
目录第7-9页
第一章 绪论第9-17页
    1.1 倒装芯片技术第9-11页
        1.1.1 倒装芯片封装特点第9-10页
        1.1.2 倒装芯片封装工艺流程第10-11页
    1.2 液态免清洗助焊剂第11-12页
    1.3 倒装芯片助焊剂分配方法第12-14页
    1.4 助焊剂转移过程的动态检测第14-15页
    1.5 论文课题来源、研究意义及内容第15-17页
        1.5.1 课题来源第15页
        1.5.2 研究意义第15-16页
        1.5.3 研究内容第16-17页
第二章 助择剂涂敷方案和涂胶检测系统设计第17-41页
    2.1 助焊剂涂敷方案设计第17-18页
    2.2 凹槽涂胶检测方案设计第18-27页
        2.2.1 检测方法的基本原理第19页
        2.2.2 胶液表面成像原理第19-27页
    2.3 涂胶检测实验平台硬件设计第27-35页
        2.3.1 运动控制装置第27-30页
            2.3.1.1 运动控制卡第28-29页
            2.3.1.2 电机和驱动器第29-30页
        2.3.2 检测设备的选择第30-33页
            2.3.2.1 相机与镜头选择第31-32页
            2.3.2.2 光源选择第32-33页
        2.3.4 涂胶检测机构的硬件集成第33-35页
            2.3.4.1 涂胶执行机构的装配第33-34页
            2.3.4.2 涂胶检测系统的集成第34-35页
    2.4 涂胶检测实验平台软件程序设计第35-40页
        2.4.1 系统软件平台选择与介绍第35页
        2.4.2 程序功能结构分析第35-36页
        2.4.3 软件平台界面和功能实现第36-39页
        2.4.4 系统软件工作流程第39-40页
    2.5 本章小结第40-41页
第三章 凹槽涂胶实验和分析第41-54页
    3.1 实验设备和实验过程第41-42页
    3.2 图像处理过程第42-45页
    3.3 实验分析第45-53页
        3.3.1 胶液铺展过程第45-46页
        3.3.2 检测方法的稳定性分析第46-48页
        3.3.3 涂胶速度对铺展过程的影响第48-49页
        3.3.4 胶液粘度对铺展过程的影响第49-51页
        3.3.5 胶液粘度和涂胶速度对铺展速度的影响第51-53页
    3.4 本章小结第53-54页
第四章 芯片胶液浸蘸实验及分析第54-74页
    4.1 实验设备和方法第54-58页
    4.2 实验数据处理第58-62页
    4.3 胶液粘度对浸蘸结果的影响第62-64页
    4.4 凸点浸入深度对浸蘸结果的影响第64-65页
    4.5 浸入时间对浸蘸量的影响第65-66页
    4.6 提升速度对浸蘸结果的影响第66-72页
        4.6.1 提升速度、加速度与浸蘸量的关系第68-70页
        4.6.2 提升速度与助焊剂脱离高度、脱离时间的关系第70-71页
        4.6.3 提升速度与凸点助焊剂稳定时间的关系第71-72页
    4.7 本章小结第72-74页
第五章 全文总结与展望第74-76页
    5.1 全文总结第74页
    5.2 不足和展望第74-76页
参考文献第76-80页
攻读硕士学位期间研究成果第80-81页
致谢第81页

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