| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 引言 | 第5-7页 |
| 2 背景知识介绍 | 第7-18页 |
| 2.1 VDDmin测试及数据收集方法 | 第7-8页 |
| 2.2 造成晶圆厂工艺波动的因素 | 第8-11页 |
| 2.2.1 沟道尺寸偏移 | 第8-9页 |
| 2.2.2 随机掺杂波动 | 第9-10页 |
| 2.2.3 栅氧化层厚度的波动 | 第10页 |
| 2.2.4 线边缘和线宽的粗糙度 | 第10页 |
| 2.2.5 载流子波动 | 第10-11页 |
| 2.3 工艺波动的类型 | 第11-13页 |
| 2.3.1 片间波动 | 第11-12页 |
| 2.3.2 片内波动 | 第12-13页 |
| 2.3.3 互连线波动 | 第13页 |
| 2.4 蒙特卡洛方法原理及应用 | 第13-18页 |
| 3 VDDmin测试的意义 | 第18-22页 |
| 3.1 传统的IDDQ测试 | 第18-19页 |
| 3.2 VDDmin在最新工艺产品工程中的应用 | 第19-22页 |
| 4 VDDmin与晶圆厂工艺关键参数之间的联系 | 第22-32页 |
| 4.1 工艺角与设计容限试验 | 第22-26页 |
| 4.2 挑选用以VDDmin建模的工艺关键参数 | 第26-27页 |
| 4.3 建立VDDmin与IsatN/P之间的联系 | 第27-32页 |
| 5 应用蒙特卡洛方法模拟VDDmin的分布 | 第32-43页 |
| 5.1 用蒙特卡洛方法随机生成数据的步骤 | 第32-34页 |
| 5.2 利用Excel实现自动蒙特卡洛采样模拟 | 第34-36页 |
| 5.3 针对VDDmin分布的数据分析及基于VDDmin分布的良率估算 | 第36-38页 |
| 5.4 模拟晶圆厂工艺目标值调整及工艺波动控制水平对良率的影响 | 第38-43页 |
| 6 结论 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
