| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| 1.1 石墨烯材料及研究意义 | 第7-12页 |
| 1.1.1 石墨烯结构概述 | 第7-9页 |
| 1.1.2 石墨烯的独特性质及潜在应用 | 第9-11页 |
| 1.1.3 石墨烯的几种制备方法 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状和外延设备 | 第12-14页 |
| 1.3 本文主要内容和工作步骤 | 第14-15页 |
| 第二章 碳化硅外延石墨烯生长机理与工艺 | 第15-27页 |
| 2.1 碳化硅外延石墨烯 | 第15-20页 |
| 2.1.1 碳化硅结构与分类 | 第15-16页 |
| 2.1.2 碳化硅制备石墨烯原理 | 第16-17页 |
| 2.1.3 石墨烯生长工艺过程 | 第17-20页 |
| 2.2 碳化硅外延石墨烯工艺需求与设备发展 | 第20-21页 |
| 2.2.1 碳化硅外延石墨烯工艺需求 | 第20-21页 |
| 2.2.2 半导体设备发展现状 | 第21页 |
| 2.3 碳化硅外延石墨烯设备研制过程中需要注意的问题 | 第21-26页 |
| 2.3.1 气路监测控制 | 第21-23页 |
| 2.3.2 真空反应室问题 | 第23页 |
| 2.3.3 真空室检漏 | 第23-25页 |
| 2.3.4 流量计和电磁阀 | 第25-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 碳化硅外延石墨烯设备的实现及调试 | 第27-45页 |
| 3.1 石墨烯制备设备各系统的实现与连接 | 第27-39页 |
| 3.1.1 加热系统 | 第27-30页 |
| 3.1.2 真空系统 | 第30-36页 |
| 3.1.3 真空计 | 第36-37页 |
| 3.1.4 气路流量控制系统 | 第37-38页 |
| 3.1.5 水浴冷却系统 | 第38页 |
| 3.1.6 尾气处理系统 | 第38-39页 |
| 3.2 主控设备原理与实现 | 第39-42页 |
| 3.3 软硬件协同工作实现 | 第42-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 石墨烯制备设备应用及工艺实验 | 第45-53页 |
| 4.1 碳化硅外延高温热解法和氯化碳化硅得到石墨烯 | 第45-46页 |
| 4.1.1 热解碳化硅法制备石墨烯 | 第45页 |
| 4.1.2 氯化碳化硅法制备石墨烯 | 第45-46页 |
| 4.2 热解法石墨烯的工艺步骤 | 第46-47页 |
| 4.3 热解法石墨烯的表征与分析 | 第47-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 研究成果 | 第61-62页 |