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200V大功率VDMOSFET设计研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-11页
   ·VDMOS 的主要应用范围第7-8页
   ·VDMOS 与双极晶体管第8-9页
   ·本文主要工作第9-11页
第二章 VDMOS 结构参数设计分析研究第11-33页
   ·VDMOS 的结构与工作原理第11-12页
   ·设计指标第12页
   ·电学参数设计第12-29页
     ·击穿电压第13-22页
     ·阈值电压第22-23页
     ·电流第23-24页
     ·导通电阻第24-26页
     ·温度影响及安全工作区第26-28页
     ·横向结构参数设计考虑第28-29页
   ·版图设计第29-30页
   ·小结第30-33页
第三章 器件仿真研究第33-43页
   ·器件电学特性仿真第33-35页
   ·工艺设计及仿真第35-40页
     ·离子注入第36-37页
     ·薄膜的淀积第37-38页
     ·工艺流程第38页
     ·工艺仿真第38-40页
   ·小结第40-43页
第四章 器件研制第43-47页
   ·器件研制第43页
   ·研制结果第43-45页
   ·小结第45-47页
第五章 封装第47-51页
   ·封装工艺流程第47-48页
   ·多余物的问题解决第48-49页
   ·封装气密性问题的解决第49页
   ·小结第49-51页
第六章 结束语第51-53页
致谢第53-55页
参考文献第55-57页
研究成果第57-58页

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