| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 课题研究背景和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-19页 |
| 1.2.1 光刻胶涂覆方法的研究现状 | 第12-16页 |
| 1.2.2 基于压电雾化喷涂法光刻胶涂覆研究现状 | 第16-19页 |
| 1.3 研究现状分析 | 第19-20页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第20页 |
| 1.5 本章小结 | 第20-21页 |
| 第二章 压电雾化涂覆光刻胶机理分析 | 第21-32页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 压电雾化机理分析 | 第21-26页 |
| 2.2.1 压电换能器工作机理分析 | 第21-24页 |
| 2.2.2 空化效应机理分析 | 第24-26页 |
| 2.3 薄膜制备的模型 | 第26-31页 |
| 2.3.1 薄膜制备物理模型的分析 | 第26-29页 |
| 2.3.2 薄膜厚度数学模型的建立 | 第29-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 压电雾化涂覆光刻胶实验系统的搭建 | 第32-51页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 系统总体方案设计 | 第32-36页 |
| 3.2.1 设计要求 | 第32-33页 |
| 3.2.2 总体方案设计 | 第33-34页 |
| 3.2.3 控制流程设计 | 第34-35页 |
| 3.2.4 配置的选择 | 第35-36页 |
| 3.3 系统硬件设计 | 第36-41页 |
| 3.3.1 真空箱设计 | 第36-39页 |
| 3.3.2 吸附加热系统设计 | 第39页 |
| 3.3.3 喷头气道设计与仿真 | 第39-41页 |
| 3.4 系统软件设计 | 第41-45页 |
| 3.4.1 PLC程序控制 | 第41-43页 |
| 3.4.2 人机交互界面设计 | 第43-45页 |
| 3.5 系统电气设计 | 第45-47页 |
| 3.6 系统总装调试 | 第47-49页 |
| 3.7 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 压电雾化光刻胶薄膜制备工艺研究实验 | 第51-75页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 制备正性光刻胶薄膜工艺研究 | 第51-62页 |
| 4.2.1 稀释体积比和流量对正胶薄膜质量指标的影响 | 第51-53页 |
| 4.2.2 预热温度和气压对正胶薄膜质量指标的影响 | 第53-55页 |
| 4.2.3 距离和功率对正胶薄膜质量指标的影响 | 第55-58页 |
| 4.2.4 速度和基材对正胶薄膜质量指标的影响 | 第58-60页 |
| 4.2.5 稀释溶剂和层数对正胶薄膜质量指标的影响 | 第60-62页 |
| 4.3 制备负性光刻胶薄膜工艺研究 | 第62-70页 |
| 4.3.1 稀释体积比和流量对负胶薄膜质量指标的影响 | 第62-64页 |
| 4.3.2 预热温度和气压对负胶薄膜质量指标的影响 | 第64-66页 |
| 4.3.3 距离和功率对负胶薄膜质量指标的影响 | 第66-68页 |
| 4.3.4 速度和层数对负胶薄膜质量指标的影响 | 第68-70页 |
| 4.4 工艺参数对光刻胶薄膜粘附力影响实验 | 第70-73页 |
| 4.4.1 稀释体积比和预热温度对光刻胶薄膜粘附力的影响 | 第70-71页 |
| 4.4.2 前烘温度和前烘时间对光刻胶薄膜粘附力的影响 | 第71-73页 |
| 4.4.3 基材和有机溶剂对光刻胶薄膜粘附力的影响 | 第73页 |
| 4.5 小结 | 第73-75页 |
| 第五章 制备压电雾化光刻胶薄膜的应用实验 | 第75-83页 |
| 5.1 引言 | 第75页 |
| 5.2 压电雾化法制备光刻胶薄膜在光刻中的应用实验 | 第75-78页 |
| 5.2.1 前烘对光刻线宽的影响 | 第75-76页 |
| 5.2.2 曝光对光刻线宽的影响 | 第76-77页 |
| 5.2.3 后烘对光刻线宽的影响 | 第77-78页 |
| 5.2.4 显影对光刻线宽的影响 | 第78页 |
| 5.3 压电雾化法与旋转法制备光刻胶薄膜的应用对比实验 | 第78-81页 |
| 5.3.1 宏观对比实验 | 第79-80页 |
| 5.3.2 微观对比实验 | 第80-81页 |
| 5.4 本章小结 | 第81-83页 |
| 第六章 总结与展望 | 第83-86页 |
| 6.1 总结 | 第83-84页 |
| 6.2 展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-91页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
