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0.35μmSOI工艺PDK开发与应用

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-11页
第1章 引言第11-16页
   ·研究背景第11-13页
     ·PDK的背景知识第11-12页
     ·PDK的发展现状第12-13页
   ·SOI工艺第13-15页
   ·本文的研究目的与主要内容第15-16页
第2章 技术文件的开发第16-21页
   ·技术文件的开发第16-20页
     ·图层文件段的定义第16-18页
     ·器件文件段的定义第18-19页
     ·连接性提取规则文件段的定义第19-20页
     ·布局布线规则文件段的定义第20页
   ·本章小结第20-21页
第3章 物理验证规则文件的开发第21-29页
   ·GTE下DRC规则的开发第21-24页
     ·图形的绘制第21-22页
     ·设计规则输入第22页
     ·DRC实例开发第22-24页
   ·GTE下LVS规则的开发第24-28页
     ·连接性提取的定义第25页
     ·器件识别的定义第25-27页
     ·一致性比较的定义第27-28页
   ·本章小结第28-29页
第4章 Hmos晶体管PCell的开发第29-47页
   ·Hmos的PCell开发第29-36页
     ·Hmos的PCell开发流程第29-30页
     ·有源区主体结构的设计第30-31页
     ·多晶层与识别层的设计第31-32页
     ·metall层与cont层的设计第32-33页
     ·源漏互换功能的实现第33-34页
     ·注入层第34页
     ·串并联功能的支持第34-36页
   ·组件描述格式第36-40页
     ·CDF的参数模块第36-38页
     ·模拟信息模块第38-39页
     ·解释性标签模块和其他信息第39-40页
   ·callback回呼函数第40-42页
     ·冋呼函数简介第40页
     ·冋呼函数HmosCB的分析第40-42页
   ·拉伸功能第42-45页
     ·Hmos拉伸的实例第42页
     ·拉伸功能的实现第42-43页
     ·可拉伸PCell的设计第43-45页
   ·PAS建库第45-46页
   ·本章小结第46-47页
第5章 应用PDK设计14级二进制计数器第47-62页
   ·HC4060系列芯片简介第47-48页
   ·应用0.35 μ m SOI工艺PDK完成HC4060芯片设计第48-61页
     ·芯片HC4060原理图的设计第48-49页
     ·hspice仿真第49-53页
     ·版图布局布线第53-59页
     ·Calibre DRC检查第59-60页
     ·Calibre LVS验证第60-61页
   ·本章小结第61-62页
第6章 结论与展望第62-63页
致谢第63-64页
参考文献第64-67页
攻读学位期间发表的学术论文及参加科研情况第67页

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