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高压双向可控硅静电保护器件研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-17页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 国内外研究进展第10-16页
    1.3 工作内容及论文组织第16-17页
        1.3.1 工作内容第16页
        1.3.2 论文的组织结构第16-17页
第2章 ESD保护器件研究基础第17-27页
    2.1 集成电路的ESD保护第17-21页
        2.1.1 ESD保护器件的工作机制第17页
        2.1.2 ESD保护的设计窗口第17-18页
        2.1.3 ESD保护器件的测试第18-21页
    2.2 ESD保护器件的简介第21-25页
        2.2.1 二极管第22-23页
        2.2.2 双极型晶体管第23页
        2.2.3 金属氧-化物-半导体晶体管第23-24页
        2.2.4 可控硅第24-25页
    2.3 ESD器件的研究方法第25-26页
    2.4 本章小结第26-27页
第3章 基于DDSCR结构的ESD保护设计与研究第27-34页
    3.1 双向可控硅第27-30页
        3.1.1 双向可控硅的研究背景第27页
        3.1.2 DDSCR的结构第27-28页
        3.1.3 DDSCR的工作原理第28-30页
    3.2 基于DDSCR结构低触发器件的设计第30-33页
        3.2.1 IBDSCR的结构第30页
        3.2.2 IBDSCR的工作原理第30-32页
        3.2.3 IBDSCR的实际应用第32-33页
    3.3 本章小结第33-34页
第4章 多指嵌套结构DDSCR的研究第34-44页
    4.1 传统叉指DDSCR第34-36页
        4.1.1 传统叉指DDSCR的结构与工作原理第34-35页
        4.1.2 传统叉指DDSCR存在的问题第35-36页
    4.2 新型嵌套结构DDSCR的研究第36-40页
        4.2.1 新型多指嵌套DDSCR的结构与工作原理第36-37页
        4.2.2 新型嵌套结构DDSCR的仿真与建模第37-40页
    4.3 测试结果与分析第40-43页
        4.3.1 新型嵌套结构与单指IBDSCR的比较分析第41-42页
        4.3.2 新型嵌套结构与传统叉指结构的比较分析第42-43页
        4.3.3 新型嵌套结构导通电阻的测试结果与理论计算的比较分析第43页
    4.4 本章小结第43-44页
第5章 二极管阵列触发DDSCR的研究第44-53页
    5.1 正偏二极管阵列触发DDSCR第44-47页
        5.1.1 正偏二极管阵列触发DDSCR的结构第44-46页
        5.1.2 正偏BDTSCR的工作原理第46-47页
        5.1.3 正偏二极管阵列触发DDSCR存在的问题第47页
    5.2 反偏二极管阵列触发DDSCR第47-51页
        5.2.1 反偏二极管阵列触发DDSCR的结构与工作原理第47-49页
        5.2.2 反偏二极管阵列触发DDSCR的版图研究第49-50页
        5.2.3 反偏二极管阵列触发DDSCR的测试结果第50-51页
    5.3 本章小结第51-53页
第6章 工作总结与展望第53-55页
    6.1 总结第53页
    6.2 创新之处第53页
    6.3 展望第53-55页
参考文献第55-58页
致谢第58-59页
个人简历第59-60页
在校期间发表的学术论文及研究成果第60页

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